[发明专利]电容指纹识别方法、电容指纹识别装置和电子设备在审

专利信息
申请号: 202110321757.0 申请日: 2021-03-25
公开(公告)号: CN113033402A 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 刘憶;丁大禹;廖志川;袁超 申请(专利权)人: 深圳市汇顶科技股份有限公司
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00
代理公司: 北京龙双利达知识产权代理有限公司 11329 代理人: 孙涛;毛威
地址: 518045 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电容 指纹识别 方法 装置 电子设备
【说明书】:

一种电容指纹识别方法、电容指纹识别装置、和电子设备。该方法应用于具有电容指纹识别装置的电子设备,所述电容指纹识别装置用于设置在所述电子设备的异形表面,所述电容指纹识别装置包括像素电极阵列,所述方法包括:获取第i列像素电极的打码个数N(i);根据所述打码个数N(i),对所述第i列像素电极进行打码以得到输出电压,所述输出电压对应于所述电容,所述输出电压用于指纹识别。本申请的指纹识别方法通过为像素电极按列分配打码个数,提高对应于与弧形表面距离大的像素电极的信号量,将像素电极的列平均输出电压控制在相近的水平,以便于算法处理,同时,降低数据上下饱和的风险,从而提高了指纹识别的性能。

技术领域

本申请涉及电容指纹技术领域,并且更具体地,涉及一种电容指纹识别 方法、电容指纹识别装置和电子设备。

背景技术

目前,随着生物识别传感器的发展,尤其指纹识别传感器的迅猛发展, 指纹识别传感器广泛应用于移动终端设备,智能家居,汽车电子等领域,市 场对生物识别传感器的需求与日俱增,市场需求体量越来越大,用户对产品 的要求不仅仅是高品质高性能的追求,已经扩展到外观需求的多样化,并且 不同的用户群体审美的眼光也是多样化的。

目前主流市场的电容指纹装置都是平面结构,外观上比较单一,没有立 体感,客户体验没有足够的新颖,另外,灰尘等物质经常会很容易吸附在平 面的电容指纹装置上,导致指纹识别出现误判等问题,且手机在摔落时,会 对整个电容指纹识别装置的平面造成损伤,影响指纹识别装置的性能。

因此,如何提升电容指纹识别装置的性能以及用户使用体验,是一项亟 待解决的技术问题。

发明内容

本申请实施例提供了一种电容指纹识别方法、电容指纹识别装置和电子 设备,可以提高电容指纹识别的性能。

第一方面,提供一种电容指纹识别方法,应用于具有电容指纹识别装置 的电子设备,所述电容指纹识别装置用于设置在所述电子设备的异形表面, 所述电容指纹识别装置包括像素电极阵列,所述像素电极阵列用于与触摸所 述异形表面的手指形成电容,所述像素电极阵列包括M列像素电极,其中, 同一列像素电极中的每一个像素电极与所述异形表面的距离相同,M为大于 1的整数,所述方法包括:获取第i列像素电极的打码个数N(i);根据所述 打码个数N(i),对所述第i列像素电极进行打码以得到输出电压,所述输出 电压对应于所述电容,所述输出电压用于指纹识别;其中,所述第i列像素 电极对应的打码个数N(i)与所述第i列像素电极和所述异形表面之间的距 离D正相关,i为所述M列像素电极的序号数,i为大于或等于1的整数,且 i小于或等于M。

应理解,本申请实施例中的异形平面可以指表面形状不规则的平面。

在平面电容指纹识别中,一方面,平面结构外观单一,客户体验不好, 另一方面,灰尘等容易吸附在平面的电容指纹识别装置上,导致指纹识别出 现误判,本申请实施例提出了一种可以适用于具有异形平面的电子设备的电 容指纹识别方法,使得电容指纹识别装置可以适用于具有各种不同形状表面 的电子设备,从而可以提升客户的体验,同时,与平面结构不同,电子设备 的异形表面与电容指纹识别装置的距离不同,如果继续沿用现有技术中的平 面电容指纹识别方法,则会出现电容指纹识别装置获取的各部分的信号量差异较大,导致不能很好的进行指纹识别,从而影响指纹识别性能,而且,获 取的数据整体呈现弧形,数据容易上下饱和,不利于后期的算法处理,继而 也会影响指纹识别,基于此,本申请实施例提出的指纹识别方法可以根据像 素电极与异形表面之间的距离,为每一列像素电极分配单独的打码个数,这 样可以增大像素电极与异形表面之间距离大的位置的信号量,以利于指纹识 别,同时,还可以将电容指纹识别装置获取的对应于异形表面各部分的信号 量控制在相近的水平,以便于算法处理,同时,减少数据上下饱和的风险, 继而达到了提高指纹识别性能的目的。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市汇顶科技股份有限公司,未经深圳市汇顶科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110321757.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top