[发明专利]一种聚合物选通器件及其制备方法

权利要求书

1.一种聚合物选通器件，其特征在于：其包括衬底，衬底之上依次为底电极、存储介质层、顶电极，所述的存储介质层是银离子与缘性聚合物卡拉胶杂化层。

2.根据权利要求1所述的一种聚合物选通器件，其特征在于：所述的衬底为硅片、二氧化硅片、玻璃、石英片或者聚合物。

3.根据权利要求1所述的一种聚合物选通器件，其特征在于：所述的存储介质层的厚度为100nm。

4.根据权利要求1所述的一种聚合物选通器件，其特征在于：所述的衬底是硅片衬底，所述的顶电极是Al电极、Ag电极中的一种。

5.一种聚合物选通器件的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1)底电极的制备：通过高温热还原氧化石墨烯的方法在衬底上制备还原氧化石墨烯膜；

(2)存储介质层的制备：将纯卡拉胶溶于溶剂后，旋涂于底电极上，烘干；

(3)顶电极的制备：用热蒸镀的方法在存储介质层上形成金属Ag电极，即得存储器。

6.根据权利要求5所述的一种聚合物选通器件的制备方法，其特征在于：所述的步骤(1)中衬底在使用前需预处理，将衬底依次采用乙醇、异丙醇、水超声10-20min，氮气吹干，用氧气等离子清洗机在10-50W的功率下处理3-8min。

7.根据权利要求6所述的一种聚合物选通器件的制备方法，其特征在于：所述的步骤(1)中高温热还原氧化石墨烯的方法是在衬底上旋涂氧化石墨烯溶液，得氧化石墨烯薄膜，然后在氩/氢混合气氛中在1000-1200℃的高温下还原0.5-3小时，得还原氧化石墨烯膜。

8.根据权利要求6所述的一种聚合物选通器件的制备方法，其特征在于：所述的存储介质层的制备方法是将绝缘聚合物溶于溶剂后，旋涂于界面修饰层上，烘干；通过蒸镀等方法获得有机小分子或无机介电材料。