[发明专利]一种七元氟硼荧光染料及其在荧光防伪膜上的应用在审

专利信息
申请号: 202110287514.X 申请日: 2021-03-17
公开(公告)号: CN113105487A 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 张诺诺;袁晓慧;陈茜;晏佳莹;刘德保;李德江 申请(专利权)人: 三峡大学
主分类号: C07F5/02 分类号: C07F5/02;C09K11/06;C09B23/04;C09D133/04;C09D5/22
代理公司: 宜昌市三峡专利事务所 42103 代理人: 成钢
地址: 443002 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 七元氟硼 荧光 染料 及其 防伪 应用
【权利要求书】:

1.一种七元氟硼荧光染料,其特征在于,该化合物的分子式为C17H17BF2N2,结构式如下所示:

2.根据权利要求1所述的七元氟硼荧光染料的合成方法,其特征在于,通过如下方法实现:

所述方法包括以下步骤:

(1)在室温下向反应瓶中加入2,3,3-三甲基吲哚,浓盐酸,常温搅拌,得到反应液,在反应液中加入甲醇旋干,得到质子化的2,3,3-三甲基吲哚;

(2)在室温下向反应瓶中加入质子化之后的2,3,3-三甲基吲哚,甲苯,2-乙酰基吡咯、哌啶、醋酸,三氯氧磷加热回流,得到反应液;

(3)将步骤(2)得到的反应液经水洗、萃取、干燥,柱层析,旋干后得到固体化合物3;

(4)分别向步骤(3)中的固体化合物3加入甲苯、三乙胺,再缓慢滴加三氟化硼乙醚络合物,升温回流反应得到I的反应液;

(5)将步骤(4)中的反应液分别水洗、萃取、干燥,柱层析,旋干后得到化合物I。

3.根据权利要求2所述的七元氟硼荧光染料的合成方法,其特征在于:所述步骤(2)中2-乙酰基吡咯、质子化的2,3,3-三甲基吲哚、醋酸、哌啶、三氯氧磷的投料比为1:1-10:1-10:1-10:1-10。

4.根据权利要求2所述的七元氟硼荧光染料的合成方法,其特征在于:所述步骤(2)投料的顺序为质子化的2,3,3-三甲基吲哚、2-乙酰基吡咯、甲苯、醋酸、哌啶、三氯氧磷。

5.根据权利要求2所述的七元氟硼荧光染料的合成方法,其特征在于:所述步骤(2)加热回流条件为升温至120-130℃,回流2-18小时。

6.根据权利要求2所述的七元氟硼荧光染料的合成方法,其特征在于:所述步骤(4)中化合物3、三乙胺、三氟化硼乙醚络合物的投料摩尔比为1:1-25:1-25。

7.根据权利要求2所述的七元氟硼荧光染料的合成方法,其特征在于:所述步骤(4)中,投料的顺序为化合物3,甲苯,三乙胺,三氟化硼乙醚。

8.根据权利要求2所述的七元氟硼荧光染料的合成方法,其特征在于:所述步骤(4)中,加热反应温度为120-130℃,反应时间为0.5-8h。

9.权利要求1所述的七元氟硼荧光染料作为荧光防伪膜试剂上的应用。

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