[发明专利]显示装置在审

专利信息
申请号: 202110275266.7 申请日: 2021-03-15
公开(公告)号: CN113764465A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 崔洛初;权大起;安致旭;金智熙;郑壤镐 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;薛义丹
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置
【说明书】:

提供了一种显示装置。所述显示装置包括其中布置有主显示元件的主显示区域以及其中布置有辅助显示元件和透射区域的组件区域,显示装置包括:第一像素限定层,布置在主显示区域中,第一像素限定层位于主显示元件的第一像素电极之间;第二像素限定层,布置在组件区域中,第二像素限定层位于辅助显示元件的第二像素电极之间;黑矩阵,布置在主显示元件上,黑矩阵位于主显示元件的发射区域周围;以及滤色器,布置在主显示元件和辅助显示元件上,滤色器布置为分别与主显示元件的发射区域和辅助显示元件的发射区域对应。

本申请要求于2020年6月1日提交的第10-2020-0066018号韩国专利申请的优先权和权益,所述韩国专利申请出于所有的目的而通过引用包含于此,如同在此充分阐述的一样。

技术领域

发明的示例性实施例总体上涉及一种显示装置,更具体地,涉及一种显示面板以及包括该显示面板的显示装置,在该显示面板中,确保了在布置有电子组件的区域中的透射率。

背景技术

最近,显示装置的用途已经多样化。此外,随着显示装置的厚度和重量的减少,其用途已经增加。

由于显示装置被不同地使用,因此可以存在各种方法来设计显示装置的形状以及将要应用或链接到显示装置的增加数量的功能。

在该背景技术部分中公开的上述信息仅用于理解发明构思的背景技术,因此,它可能包含不构成现有技术的信息。

发明内容

根据发明的示例性实施例构造的装置能够提供一种显示面板以及包括该显示面板的显示装置,在该显示面板中,确保了在布置有作为电子元件的组件的区域中的透射率。然而,应该理解的是,应该仅以描述性的含义来考虑这里描述的实施例,而不是为了限制实施例。

另外的方面将在下面的描述中部分地阐述,并且部分地通过描述将是明显的,或者可以通过实践所呈现的实施例而获知。

根据一个或更多个实施例,一种显示装置包括其中布置有主显示元件的主显示区域以及其中布置有辅助显示元件和透射区域的组件区域,显示装置包括:第一像素限定层,布置在主显示区域中,第一像素限定层位于主显示元件的第一像素电极之间;第二像素限定层,布置在组件区域中,第二像素限定层位于辅助显示元件的第二像素电极之间;黑矩阵,布置在主显示元件上,黑矩阵位于主显示元件的发射区域周围;以及滤色器,布置在主显示元件和辅助显示元件上,滤色器布置为分别与主显示元件的发射区域和辅助显示元件的发射区域对应。

第一像素限定层可以包括不透明材料,并且第二像素限定层可以包括透明材料。

显示装置还可以包括:第一间隔件,位于第一像素限定层上;绝缘图案,布置在组件区域中;以及第二间隔件,位于绝缘图案上。

第二像素限定层可以覆盖绝缘图案,并且第二间隔件可以是第二像素限定层的布置在绝缘图案上的一部分。

第二像素限定层可以与绝缘图案隔开,并且狭缝可以在第二像素限定层与绝缘图案之间围绕绝缘图案。

显示装置还可以包括:第一间隔件,位于第一像素限定层上;以及第二间隔件,作为第二像素限定层的一部分,第二间隔件是从第二像素限定层突出的一部分。

第一像素限定层和第二像素限定层中的每个可以包括不透明材料。

第二像素限定层可以包括围绕第二像素电极的边缘的第一绝缘图案。

显示装置还可以包括:第一间隔件,位于第一像素限定层上;第二绝缘图案,位于第一绝缘图案之间,第二绝缘图案与第一绝缘图案隔开;以及第二间隔件,位于第二绝缘图案上。

第二绝缘图案可以包括不透明材料,并且第一间隔件和第二间隔件中的每个可以包括透明材料。

第一像素限定层可以包括围绕第一像素电极的边缘的第三绝缘图案。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110275266.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top