[发明专利]一种光敏树脂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种光敏树脂，其特征在于，包括有机硅先驱体、活性稀释剂、光引发剂和硅烷偶联剂；

其中，所述有机硅先驱体含有乙烯基、烯丙基、巯基和环氧基中的一种或多种；

所述活性稀释剂为自由基型活性稀释剂和/或阳离子型活性稀释剂；

所述硅烷偶联剂为乙烯基硅烷偶联剂、氨基硅烷偶联剂、环氧基硅烷偶联剂、巯基硅烷偶联剂和甲基丙烯酰氧基硅烷偶联剂中的一种或多种；

所述有机硅先驱体、活性稀释剂、光引发剂和硅烷偶联剂的质量份数分别为50-80份、5-50份、0.5-5份和5-50份；

所述有机硅先驱体为聚碳硅烷、聚硅乙炔、聚硅氧烷和聚氮硅烷中的一种或多种。

2.根据权利要求1所述的光敏树脂，其特征在于，所述自由基型活性稀释剂为单官能度丙烯酸酯活性稀释剂、双官能度丙烯酸酯活性稀释剂、三官能度丙烯酸酯活性稀释剂和六官能度丙烯酸酯活性稀释剂中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的光敏树脂，其特征在于，所述阳离子型活性稀释剂为二乙二醇乙烯基醚、烯丙基缩水甘油醚和3-乙基-3-烯丙基甲氧基氧杂环丁烷中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的光敏树脂，其特征在于，所述光引发剂为苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦、三苯基六氟锑酸盐、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、1-羟基环已基苯基甲酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮、二苯甲酮、2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、三芳基锍鎓六氟锑酸盐、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的光敏树脂，其特征在于，还包括其他助剂，所述其他助剂为消泡剂、阻聚剂和增感剂中的一种或多种。

6.一种权利要求1-4中任一项所述的光敏树脂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将有机硅先驱体、活性稀释剂、光引发剂和硅烷偶联剂在避光条件下混合均匀，制得光敏树脂。

7.一种权利要求5所述的光敏树脂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将有机硅先驱体、活性稀释剂、光引发剂、硅烷偶联剂和其他助剂在避光条件下混合均匀，制得光敏树脂。

8.一种权利要求1-5中任一项所述的光敏树脂在光固化3D打印制备陶瓷中的应用。