[发明专利]一种光刻通孔热点识别方法在审

专利信息
申请号: 202110263882.0 申请日: 2021-03-11
公开(公告)号: CN114695155A 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 胡佳南;潘伟伟 申请(专利权)人: 杭州广立微电子股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G01B21/16;G01B21/20
代理公司: 江苏坤象律师事务所 32393 代理人: 赵新民
地址: 310012 浙江省杭州市西*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 光刻 热点 识别 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻通孔热点识别方法,其特征在于,包括:

步骤S1.获取版图信息,包括:M0层、M0切断层和用于连接所述M0层的通孔层;所述M0层中的M0用于连接有源区;所述M0切断层中的切断记为M0C;所述通孔层的通孔呈矩形,记为V0;

步骤S2.将V0的四条侧边分别沿着垂直于该侧边的方向朝矩形外移动,直至满足条件则停止移动;所述条件包括触及所述M0C、移动的距离达到预设的第一距离;将移动至触及M0C停止的侧边扫过的矩形区域识别为扩充区;

步骤S3.获取所述V0周围的扩充区数量,并根据V0周围的扩充区数量来识别所述V0是否为光刻通孔热点。

2.根据权利要求1所述的一种光刻通孔热点识别方法,其特征在于,于步骤S2中所述停止移动的条件还包括:触及另一个通孔V0。

3.根据权利要求2所述的一种光刻通孔热点识别方法,其特征在于,四条所述侧边向外移动的距离,包括:沿着M0延伸方向移动的距离和垂直于M0延伸方向移动的距离;且沿着垂直于M0延伸方向移动的距离不大于相邻的两个M0中线之间的距离。

4.根据权利要求1所述的一种光刻通孔热点识别方法,其特征在于,所述步骤S3中,具体为将周围有三个扩充区的V0判断为光刻通孔热点。

5.根据权利要求4所述的一种光刻通孔热点识别方法,其特征在于,所述步骤S3中还包括获取识别到的光刻通孔热点与其相邻的三个M0C之间的距离信息,并评估该光刻通孔热点产生制造缺陷的风险大小。

6.根据权利要求5所述的一种光刻通孔热点识别方法,其特征在于,所述光刻通孔热点与其相邻的三个M0C之间的距离信息包括:在两个不同方向上的第一方向间距和第二方向间距。

7.根据权利要求6所述的一种光刻通孔热点识别方法,其特征在于,获取第一方向间距和第二方向间距的具体过程包括:

将识别到的光刻通孔热点及其接触的扩充区组成的T形图形记为第一目标区;将所述第一目标区扩展成包含其的面积最小的第一矩形;

将第一矩形减去第一目标区之后剩下的矩形各记为第二矩形;并设扩充区中,与所述光刻通孔热点重合的扩充边缘长度为扩充区的宽,与宽相垂直的扩充边缘长度为扩充区的长;

将所述第一目标区的三个扩充区中,与其中两个第二矩形都接触的扩充区记为第一扩充区,剩下的两个扩充区分别记为第二扩充区,所述第一方向间距即第一扩充区的长,所述第二方向间距即第二扩充区的长。

8.根据权利要求7所述的一种光刻通孔热点识别方法,其特征在于,还对识别到的光刻通孔热点进行筛选,筛选步骤包括:

判断第一方向间距是否符合所述第一方向范围,如符合则判定该第一扩充区有效;判断第二方向间距是否符合所述第二方向范围,如符合则判定该第二扩充区有效;当一个光刻通孔热点周围的第一扩充区和第二扩充区都有效时,将所述光刻通孔热点筛选出来。

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