[发明专利]减反膜系、光学元件和制备膜系的方法

说明书

本发明提供了一种减反膜系、光学元件和制备膜系的方法。减反膜系包括：基底层；过渡层，过渡层与基底层连接，过渡层包括至少一个第一膜层和至少一个第二膜层，第一膜层和第二膜层为多个时，多个第一膜层和多个第二膜层交替叠置，第一膜层的折射率大于第二膜层的折射率；微结构层，微结构层设置在过渡层的一侧表面且微结构层与第二膜层连接；其中，减反膜系对波长在400nm至1050nm范围内的光的最大反射率小于等于1％。本发明解决了现有技术中光学元件存在反射率高的问题。

技术领域

本发明涉及光学镀膜设备技术领域，具体而言，涉及一种减反膜系、光学元件和制备膜系的方法。

背景技术

随着手机市场不断更迭，对手机摄像头的要求也越来越高，其中鬼像问题也日渐成为市场关注的焦点问题。针对某些特殊鬼像强度难以减弱的问题，改善非球面镜片上中心边缘光谱一致性和降低其反射率光谱成为解决该问题的关键。

也就是说，现有技术中光学元件存在反射率高的问题。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种减反膜系、光学元件和制备膜系的方法，以解决现有技术中光学元件存在反射率高的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种减反膜系，包括：基底层；过渡层，过渡层与基底层连接，过渡层包括至少一个第一膜层和至少一个第二膜层，第一膜层和第二膜层为多个时，多个第一膜层和多个第二膜层交替叠置，第一膜层的折射率大于第二膜层的折射率；微结构层，微结构层设置在过渡层的一侧表面且微结构层与第二膜层连接；其中，减反膜系对波长在400nm至1050nm范围内的光的最大反射率小于等于1％。

进一步地，第一膜层的折射率大于等于2且小于等于4。

进一步地，第二膜层的折射率大于等于1.35且小于等于1.7。

进一步地，微结构层的折射率大于等于1且小于等于1.25。

进一步地，基底层的折射率大于等于1.5且小于等于1.7。

进一步地，第一膜层的材料包括Ti的氧化物、Nb₂O₅和Ta₂O₅中的至少一种。

进一步地，第二膜层的材料包括SiO₂、MgF₂、Al₂O₃中的至少一种。

进一步地，基底层的材料包括EP、APEL、Zeonex、PMMA中的至少一种。

进一步地，微结构层的材料为氧化铝。

进一步地，微结构层的表面具有柱状的微结构。

进一步地，减反膜系对波长在420nm至780nm范围内的光的最大反射率小于等于0.2％。

进一步地，减反膜系对波长在420nm至780nm范围内的光的平均反射率小于等于0.1％。

进一步地，减反膜系对波长在400nm至1050nm范围内的光的平均反射率小于等于0.3％。

进一步地，过渡层仅包括一个高折射率层和一个低折射率层，第一膜层、第二膜层和微结构层的厚度的比值为4:110:130。

根据本发明的另一方面，提供了一种光学元件，包括：上述的减反膜系；本体，减反膜系至少设置在本体的至少一侧表面上。