[发明专利]一种高膜厚高弧度3D后盖膜片的制备工艺

说明书

本发明提供了一种高膜厚高弧度3D后盖膜片的制备工艺，本工艺以PET为基材，通过UV转印在PET上形成纹理层，通过镀膜(主材料Nb靶材/Si靶材)形成高厚度的NCVM膜层，后通过丝印油墨，形成盖底油墨层，通过镭射切割形成所需要的菲林单体，此种膜片具有高耐折性，本发明主要通过优化UV转印的胶水以及NCVM工序的镀膜材料及条件，来优化膜片的抵抗膜层破裂的能力，使其在通过真空贴合后，即使在水汽的影响下，也不会出现膜裂不良，从而提升产品的外观性能，同步满足产品的信赖性测试要求。

技术领域

本发明属于镀膜技术领域，尤其涉及一种高膜厚高弧度3D后盖膜片的制备工艺。

背景技术

Deco-film工艺目前主要应用于3D手机后盖，随着手机盖板工艺越来越成熟，手机终端逐步向高玻璃弧度与高炫光膜片方向发展，这对膜片提出了新的性能要求，尤其是渐变镀膜工艺带来了新的挑战。

膜片的常规制作工艺为透明PET膜UV转印+NCVM镀膜+丝印+镭射切割+成品贴合，常规设计的玻璃高度一般小于4.0，膜层厚度一般300nm，当玻璃的弧度高于4.0，膜片的NCVM厚度超过400nm的时候，因膜层厚度特别厚，膜层成品贴合后的玻璃：第一，因弧角本身比较大，膜片本身存在拉伸；第二，在水汽的作用下，弧角区域受水汽影响，UV转印胶水膨胀拉伸，因镀膜层比较厚，在膜层堆积很疏松的状况下，比较脆弱，因胶水形变导致膜层破裂，四个R角区域特别容易呈现膜层破裂，直接影响产品的外观。

发明内容

本发明的目的在于提供一种高膜厚高弧度3D后盖膜片的制备工艺，本发明中的制备工艺可有效解决高膜厚高弧度的3D后盖菲林成品，在水汽作用下形成的R角膜裂而导致的信赖性不良的问题。

本发明提供一种高膜厚高弧度3D后盖膜片的制备工艺，包括：

A)采用UV胶水在PET基材上进行UV转印，在所述PET基材表面形成纹理层；

B)在所述纹理层的表面依次磁控溅射Si层、Nb₂O₅层和SiO₂层；

形成所述Nb₂O₅层的磁控溅射条件为：真空度1.0～5.0×10^-3Pa，Ar₂流量700～900sccm，O₂流量130～150sccm，溅射功率为10～20KW；

C)重复所述步骤B)中依次磁控溅射Nb₂O₅层和SiO₂层的步骤，直至获得所需颜色；

D)在SiO₂层的表面磁控溅射Si层，得到NCVM镀层；

E)在所述NCVM镀层表面进行丝印，激光切割和真空贴合，得到高膜厚高厚度3D后盖膜片。

优选的，所述UV胶水的硬度为2H～3H。

优选的，形成所述Si层的磁控溅射条件为：真空度1.0～5.0×10^-3Pa，Ar₂流量700～900sccm，溅射功率为10～20KW。

优选的，形成所述Nb₂O₅层的磁控溅射条件为：真空度2.0～4.0×10^-3Pa，Ar₂流量800～850sccm，O₂流量130～150sccm，溅射功率为14～16KW。

优选的，形成所述SiO₂层的磁控溅射条件为：真空度1.0～5.0×10^-3Pa，Ar₂流量500～700sccm，O₂流量400～800sccm，溅射功率为10～20KW。