[发明专利]一种溅镀沉积的反应腔体

权利要求书

1.一种溅镀沉积的反应腔体，包括有一腔体，及设于所述腔体内的护罩、托盘、夹具环和靶材固定装置，其特征在于：

所述护罩底部设有一护罩环，该护罩环内侧区域中空，且所述护罩环表面设有多个沟槽；

所述夹具环位于所述护罩环下方，所述夹具环用于放置一晶圆，所述托盘位于所述夹具环下方，所述托盘用于固定承托所述夹具环，所述靶材固定装置设于所述护罩内、位于护罩环上方，所述靶材固定装置用于安装固定一靶材，所述靶材反应后的材料通过所述护罩环的内侧区域沉积于所述晶圆上。

2.如权利要求1所述的一种溅镀沉积的反应腔体，其特征在于：所述护罩环表面布满一圈圈的所述沟槽，沟槽深度1mm~2mm，沟槽间的间距2mm~10mm，沟槽侧壁倾斜角为30°~60°，各沟槽的直角处通过喷砂处理成圆弧角。

3.如权利要求1所述的一种溅镀沉积的反应腔体，其特征在于：所述腔体包括有上盖和腔身，所述护罩包括有内护罩、外护罩及上述护罩环，所述外护罩上端置于所述腔身上部，内护罩上端置于外护罩上部，再将所述上盖置于外护罩上，使上盖、内护罩、外护罩和腔身形成封闭的反应腔室。

4.如权利要求3所述的一种溅镀沉积的反应腔体，其特征在于：所述外护罩下端先向内再向上而延伸成一底部沟槽，所述内护罩主体置于外护罩之内，内护罩下端位于底部沟槽内。

5.如权利要求4所述的一种溅镀沉积的反应腔体，其特征在于：所述护罩环外围底部设有一凹槽，使护罩环可安装于所述底部沟槽的一沟槽边上。

6.如权利要求1所述的一种溅镀沉积的反应腔体，其特征在于：所述夹具环外圈位置设有多个螺孔，用于安装固定于所述托盘上；所述夹具环内圈位置设有多个托座，用于放置上述晶圆。

7.如权利要求1所述的一种溅镀沉积的反应腔体，其特征在于：所述夹具环的内侧靠近托座设有一下凹处，该下凹处表面布满交叉沟槽，沟槽深度1mm~2mm，沟槽侧壁倾斜角为30°~60°，各沟槽的直角处通过喷砂处理成圆弧角。

8.如权利要求1所述的一种溅镀沉积的反应腔体，其特征在于：所述靶材固定装置呈碗状，其表面布满交叉的沟槽，沟槽深度1mm~2mm，沟槽间的间距2mm~10mm，沟槽侧壁倾斜角为30°~60°，各沟槽的直角处通过喷砂处理成圆弧角。