[发明专利]一种六自由度微动装置及电子束装备有效
申请号: | 202110248740.7 | 申请日: | 2021-03-08 |
公开(公告)号: | CN112596350B | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | 胡兵;江旭初;蒋赟 | 申请(专利权)人: | 上海隐冠半导体技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H05K9/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 200135 上海市浦东新区自*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 自由度 微动 装置 电子束 装备 | ||
本发明涉及集成电路装备制造技术领域,公开一种六自由度微动装置及电子束装备。微动装置包括硅片承载台、运动组件、固定组件和驱动组件,运动组件包括运动板和上磁屏蔽结构;固定组件包括连接板和下磁屏蔽结构,下磁屏蔽结构与上磁屏蔽结构配合形成磁屏蔽空间;驱动组件设于磁屏蔽空间内,包括沿第一方向设置的第一水平音圈电机和第一垂向音圈电机,沿第二方向设置的第二水平音圈电机和第二垂向音圈电机,以及沿第三方向设置的第三水平音圈电机和第三垂向音圈电机;各音圈电机的运动部均与上磁屏蔽结构连接;各音圈电机均采用双线圈式平板音圈电机。本发明能够为硅片提供六自由度的精密运动,并能减小电机漏磁,在硅片表面的漏磁能达到nT量级。
技术领域
本发明涉及集成电路装备制造技术领域,尤其涉及一种六自由度微动装置及电子束装备。
背景技术
在半导体高端设备中,如电子束装备中,广泛应用了粗微动双层运动结构,从而构成一个超精密运动平台,其中的纳米级六自由度微动运动台的定位精度决定了电子束装备的曝光精度,运行速度决定了生产效率。在下一代真空半导体设备中,如电子束光刻或晶圆检测领域,对超精密运动的要求大大提升,不仅要求运动台具备纳米级运动定位精度,还需要考虑高真空、低漏磁、低发热等要求。
纳米级六自由度微动运动台,是超精密运动台中的核心部件之一,为晶圆运动提供精密的定位功能。在电子束装备中,电子束对磁场非常敏感,因为磁场的电流中的任何变化都可以影响带电粒子束的位置。另外,高真空环境下的电机发热的问题,也会对设备产生致命性的打击。
专利WO2011074962涉及有支撑和定位的电子粒子系统,描述了一种带电粒子系统中支撑和定位结构,以及运动系统中的定位方法,主要讲述了电机的磁屏蔽方法,整个运动台的磁屏蔽方法,以及动定子之间采用弹簧结构,来补偿负载的重力,减小电机的发热。该专利中重点是讲带电粒子系统中的微动运动台的磁屏蔽手段、保护的方法等,并未讲述六自由度运动板的具体实施例。
专利CN102880009A中描述了电子束装备上用的一种六自由度微动工作台,包括第一种电磁力驱动模块和第二种电磁力驱动模块,两种驱动模块均采用4组,4组第二种电磁力驱动模块和4组第一种电磁力驱动模块相间布置,第一种电磁力驱动模块主要由平板式音圈电机组成,第二种电磁力驱动模块主要由圆筒式音圈电机组成。该专利的实施例可以在半导体装备中使用,但并未考虑漏磁的影响,特别是该方案中采用的圆筒式音圈电机,漏磁是非常严重的。
综上所述,亟需一种新的六自由度微动装置及电子束装备,以解决上述问题。
发明内容
基于以上所述,本发明的目的在于提供一种六自由度微动装置及电子束装备,能够为硅片提供六自由度的精密运动,并减小电机漏磁,使硅片表面位置的漏磁能达到nT量级。
为达上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种六自由度微动装置,包括:
硅片承载台,用于承载硅片;
运动组件,包括运动板和上磁屏蔽结构,所述运动板位于所述硅片承载台的下方,所述上磁屏蔽结构固定于所述运动板的底部,且所述上磁屏蔽结构的开口朝下;
固定组件,包括连接板和下磁屏蔽结构,所述连接板固定于所述下磁屏蔽结构的底部,且所述下磁屏蔽结构的开口朝上,所述下磁屏蔽结构与所述上磁屏蔽结构配合形成磁屏蔽空间;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海隐冠半导体技术有限公司,未经上海隐冠半导体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110248740.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。