[发明专利]检测方法和等离子体处理装置在审
申请号: | 202110243624.6 | 申请日: | 2021-03-05 |
公开(公告)号: | CN113410116A | 公开(公告)日: | 2021-09-17 |
发明(设计)人: | 舆水地盐 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;牛孝灵 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 检测 方法 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种检测方法,其特征在于,包括:
对下部电极供给偏置功率,并对上部电极或者所述下部电极供给源功率的步骤;和
检测安装在腔室上的传感器的输出值的步骤,
其中,检测所述传感器的输出值的步骤包括:
(a)按偏置波形的每一个周期确定所述偏置波形的第一相位的步骤;
(b)确定第二相位的步骤,其中该第二相位是从确定了所述第一相位的时刻起经过预先设定的第一时间后的源波形的第二相位;和
(c)从确定了所述第二相位的时刻起经过预先设定的第二时间后进行所述传感器的输出值的采样的步骤,
其中,按偏置波形的每一个周期反复执行(a)~(c)的步骤。
2.一种检测方法,其特征在于,包括:
对下部电极供给偏置功率,并对上部电极或者所述下部电极供给源功率的步骤;和
检测安装在腔室上的传感器的输出值的步骤,
其中,检测所述传感器的输出值的步骤包括:
(a)按偏置波形的每一个周期确定所述偏置波形的第一相位的步骤;
(b)确定第二相位的步骤,其中该第二相位是从确定了所述第一相位的时刻起经过预先设定的第一时间后的源波形的第二相位;和
(c)从确定了所述第二相位的时刻起经过预先设定的第二时间后使所述传感器的输出值的采样数据有效的步骤,
其中,按偏置波形的每一个周期反复执行(a)~(c)的步骤。
3.如权利要求1所述的检测方法,其特征在于:
检测所述传感器的输出值的步骤包括:
(d)从进行所述传感器的输出值的采样起,持续预先设定的采样时间取得传感器的输出值的步骤,
其中,按偏置波形的每一个周期反复执行(a)~(d)的步骤。
4.如权利要求2所述的检测方法,其特征在于:
检测所述传感器的输出值的步骤包括:
(d)从使所述传感器的输出值的采样数据有效起,持续预先设定的采样时间取得所述传感器的输出值的步骤,
其中,按偏置波形的每一个周期反复执行(a)~(d)的步骤。
5.如权利要求1~4中任一项所述的检测方法,其特征在于:
所述第二时间是0以上且为偏置波形的一周期以内的值。
6.如权利要求1~5中任一项所述的检测方法,其特征在于:
所述第一时间是0以上且为源波形的一周期以内的值。
7.如权利要求1~6中任一项所述的检测方法,其特征在于:
在检测所述传感器的输出值的步骤中,
检测所述腔室内的等离子体的特定波长的发光强度作为传感器的输出值,根据所述传感器的输出值检测基片的处理的终点。
8.一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:
能够对下部电极供给偏置功率的偏置功率供给源;
能够对上部电极或者所述下部电极供给源功率的源功率供给源;和
对安装在腔室上的传感器的输出值的检测进行控制的控制部,
所述控制部控制下述步骤:
(a)按偏置波形的每一个周期确定所述偏置波形的第一相位的步骤;
(b)确定第二相位的步骤,其中该第二相位是从确定了所述第一相位的时刻起经过预先设定的第一时间后的源波形的第二相位;和
(c)从确定了所述第二相位的时刻起经过预先设定的第二时间后进行所述传感器的输出值的采样的步骤,
其中,按偏置波形的每一个周期反复执行(a)~(c)的步骤。
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