[发明专利]一种用于化学气相沉积法镀膜玻璃的反应器

权利要求书

1.一种用于化学气相沉积法镀膜玻璃的反应器，其特征在于，包括可独立预设温度的对进入的反应气体在所述反应器长度方向上能够实施独立均匀布气的进气室和钢梁承载体；

所述进气室：

包括均压空腔和包围所述均压空腔、由外界控制系统实施控制的用于控制所述均压空腔内反应气体温度的热媒介质腔；

所述均压空腔内设有供反应气体进入的进气管，所述进气管的管壁上沿所述反应器长度方向规则分布多个小孔；

所述均压空腔底部出口处设置具有多个微孔、用于均匀布气的阻尼带，所述阻尼带选自烧结板或叠孔板，所述叠孔板由纵向设置且交替分布的平带和齿形带组成；

所述钢梁承载体包括：

与所述进气室出口连通、从上至下具有可调温度梯度的进气通道；

与所述进气通道出口以及外界相通、与热玻璃带形成的反应室，其内的反应气体可与所述热玻璃带接触反应镀膜且浓度和流速均匀；

与所述反应室出口连通、在所述反应器长度方向上能够均匀使反应废气均衡排出的排气通道；

与所述排气通道出口连通、能够排出反应废气的排气室，其四周设有用于控制所述排气室内反应废气温度的冷媒介质腔；

所述进气室、进气通道、反应室、排气通道、排气室构成反应气体通道，其中，所述进气通道、反应室、排气通道构成单U型或双U型通道，反应气体在该通道内经历预热、反应、排出过程；

所述进气室通过非焊接形式与所述钢梁承载体连接，且所述进气室的钢构独立于所述反应室、排气室的钢构。

2.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积法镀膜玻璃的反应器，其特征在于，所述均压空腔和热媒介质腔均由厚度不小于5mm的优质碳钢焊接而成，耐压气密性大于0.5MPa/24h；所述热媒介质腔内的热媒介质为水或导热油，所述导热油耐温320℃以上；

所述进气管的直径为10～35mm；所述进气管规则分布的小孔间距在5mm～25mm，小孔尺寸直径在1mm～5mm之间。

3.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积法镀膜玻璃的反应器，其特征在于，由平带和齿形带组成的阻尼带的微孔直径为0.2～1.5mm，所述平带厚度为0.05～0.5mm，所述齿形带的波峰波谷极差为0.3～1.5mm，波峰之间间距不大于1.5mm；

所述阻尼带采用两块固定块夹紧的方式固定于所述均压空腔下端，所述阻尼带的高度不低于15mm，厚度为5～25mm。

4.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积法镀膜玻璃的反应器，其特征在于，所述进气通道由第一钢构与上游块、中心块或第一钢构与两块中心块围成，由上至下温度逐渐升高，形成反应气体的预热通道；

所述第一钢构用于构成所述冷媒介质腔；所述排气室、冷媒介质腔、中心块均位于所述U型通道的内侧；所述中心块位于所述第一钢构下方且与所述第一钢构的间隙可调，从而可调整所述中心块的温度；

所述反应室为所述中心块与热玻璃带组成的用于镀膜的反应通道，所述反应室直接置于所述热玻璃带之上。

5.根据权利要求4所述的用于化学气相沉积法镀膜玻璃的反应器，其特征在于，所述中心块的材质为碳化硅或石墨，所述石墨包括等静压石墨；所述中心块的温度为150～500℃，预热通道的温度在50～420℃，进气通道的宽度为5～25mm。

6.根据权利要求4或5所述的用于化学气相沉积法镀膜玻璃的反应器，其特征在于，所述排气通道由所述中心块和排气块围成，用于排出反应后的生成的气体和未反应气体组成的混合气体，排气通道宽度10mm～40mm。

7.根据权利要求1所述的用于化学气相沉积法镀膜玻璃的反应器，其特征在于，所述排气室由高强度碳钢板和管焊接而成，所述排气室通过狭缝与所述排气通道连通，所述狭缝开口沿反应器长度方向的长度为200～450mm，沿反应器竖直方向的长度为1.5～12.5mm；

所述冷媒介质腔内的冷媒介质为水或导热油。