[发明专利]基于高程和角度约束的遮挡检测方法有效

专利信息
申请号: 202110230021.2 申请日: 2021-03-02
公开(公告)号: CN113192000B 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 刘宇;李德军;白新伟;吴迪;孙文邦;尤金凤;于光;顾子侣 申请(专利权)人: 中国人民解放军空军航空大学
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T7/60;G06F17/15
代理公司: 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 22100 代理人: 白冬冬
地址: 130022 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 基于 高程 角度 约束 遮挡 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种基于高程和角度约束的遮挡检测方法,其特征在于:其步骤是:

S1、每一个柱状表示一个像素点,投影中心PS,在三维空间里,像素点与投影中心的位置关系可用四个参数表示,其中(X,Y,Z)为像素点的位置,为投影中心相对像素点的仰角,保留对当前点进行可见性分析的结果信息,记录对应的五个参数Visible为该点的可见性;

S2、将最高点的高程置于影像的最远处,在整幅影像中投影中心相对像素点的仰角最小,当仰角为此值时,可以计算出变化单个像素距离产生的高程差为HV;当内层点高程与外层点高程的差小于HV时,内层点可见则外层点必然可见,会存在这样的一个高程HdV,使得当内层点的高程比外层点的高程大HdV时,若内层点不可见则外层点必然不可见;

S3、检测某一地物点3是否可见时,先判断搜索路径上与前一层的交点是否可见,其中交点定义为地物点2,判断步骤为:

(1)若地物点2可见,并且Z3+HV>Z2,则地物点3可见;

(2)若地物点2可见,并且Z3+HV<Z2,则计算地物点2和地物点3的仰角表征值和若地物点3可见;否则地物点3不可见,并将替代写入地物点3的记录参数中;

(3)若地物点2不可见,则计算地物点3的仰角表征值若地物点3可见;否则地物点3不可见,并将替代写入地物点3的记录参数中。

2.根据权利要求1所述的基于高程和角度约束的遮挡检测方法,其特征在于:可见性分析流程:

S1、假定地底点附近的四个地物点可见,并记录他们各自的五个参数每一层的起始点为圆形标记的地物点,按照逆时针的顺序对当前层逐点进行判断,并记录每个点对应的记录参数,当某一边搜索到边缘时,直接跳过进入其它边的地物点,依次逐层向外对地物进行可见性分析,直到所有地物点的可见性分析完成;

S2、检测某一地物点P(XP,YP,ZP)是否可见时,先计算投影光线与向内一层的交点Q(X,Y),此时Q所在层最近的两个地物点Q1和Q2的可见性已知,假定点Q1和Q2的记录参数分别为和对地物点P进行可见性分析可分为以下两种情况:

(1)地物点Q1和Q2都可见,即V1V2=true;如果满足ZP+HV>Z1且ZP+HV>Z2,则地物点P可见,否则不能判断地物点P的可见性;若ZP+HV>ZQ,则地物点P可见,否则计算地物点Q的值和地物点P的值;若则地物点P可见,否则地物点P不可见;

(2)地物点Q1和Q2有一个不可见,即V1V2=false;计算地物点P的值,如果满足且则地物点P不可见;否则计算地物点Q的其中k=(X-X1)/(X2-X1); 若则地物点P可见,否则地物点P不可见。

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