[发明专利]清洗方法和清洗装置

权利要求书

1.一种清洗方法，是基板保持架的清洗方法，所述基板保持架具有用于为了对基板进行镀敷而与所述基板接触来向所述基板供电的电接点，其中，

所述清洗方法具有通过柠檬酸水溶液来清洗所述基板保持架的所述电接点的清洗工序。

2.根据权利要求1所述的清洗方法，其中，

所述基板保持架具有第一保持部件和第二保持部件，所述第一保持部件具有构成为与外部电源电连接的中继接点，所述第二保持部件具有所述电接点，

所述清洗方法具有在所述清洗工序之前，将所述第一保持部件和所述第二保持部件分离的分离工序，

在所述清洗工序中，不清洗所述第一保持部件，清洗所述第二保持部件。

3.根据权利要求1或2所述的清洗方法，其中，

所述柠檬酸水溶液中的柠檬酸的质量百分比浓度为2％至30％。

4.根据权利要求1或2所述的清洗方法，其中，

所述清洗方法还具有旋转工序，在所述旋转工序中，使具有所述电接点的环状的保持部件在圆周方向上旋转，

所述清洗工序具有在所述旋转工序的期间朝向所述电接点喷射所述柠檬酸水溶液的工序。

5.根据权利要求1或2所述的清洗方法，其中，

还具有在所述清洗工序之前，通过水来清洗所述基板保持架的第一水洗工序。

6.根据权利要求1或2所述的清洗方法，其中，

所述清洗工序具有浸渍工序，在所述浸渍工序中，使作为所述基板保持架的至少一部分的部件并且具有所述电接点的保持部件的整体浸渍于保持在清洗槽中的所述柠檬酸水溶液。

7.根据权利要求6所述的清洗方法，其中，

还具有在所述清洗工序之前，将所述保持部件的整体浸渍于保持在所述清洗槽中的水的第一水洗工序。

8.根据权利要求1或2所述的清洗方法，其中，

所述清洗方法还具有：

第二水洗工序，在所述清洗工序之后，通过水来清洗所述基板保持架；以及

干燥工序，在所述第二水洗工序之后，使所述基板保持架干燥。

9.根据权利要求8所述的清洗方法，其中，

所述干燥工序具有：

送风工序，风扇向所述基板保持架吹送气体；以及

加热工序，加热器对向所述基板保持架吹送的所述气体进行加热。

10.一种清洗装置，具备：

旋转部件，其用于保持环状的保持部件，所述保持部件为了镀敷而保持基板并且具有与所述基板接触的电接点；

致动器，其用于通过使所述旋转部件旋转，来使所述保持部件在圆周方向上旋转；以及

清洗模块，其用于使用柠檬酸水溶液来清洗通过所述旋转部件而正在旋转的所述保持部件。

11.根据权利要求10所述的清洗装置，其中，

所述保持部件是具有所述电接点的第二保持部件，

基板保持架构成为包含第一保持部件和所述第二保持部件，所述第一保持部件具有构成为与外部电源电连接的中继接点。

12.根据权利要求10或11所述的清洗装置，其中，

所述清洗模块具有用于朝向所述保持部件喷射所述柠檬酸水溶液的喷嘴。

13.根据权利要求10或11所述的清洗装置，其中，

所述清洗模块具有保持所述柠檬酸水溶液的壳体，

所述清洗装置构成为所述保持部件的一部分浸渍于所述壳体所保持的所述柠檬酸水溶液。

14.根据权利要求10或11所述的清洗装置，其中，

所述清洗装置还具备用于朝向所述保持部件吹送暖风的暖风装置。