[发明专利]非接触输送装置在审
| 申请号: | 202110189982.3 | 申请日: | 2021-02-18 |
| 公开(公告)号: | CN113277302A | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
| 发明(设计)人: | 中山徹;杉山亨;齐藤优;坂洋明 | 申请(专利权)人: | SMC株式会社 |
| 主分类号: | B65G47/74 | 分类号: | B65G47/74;B65G47/91 |
| 代理公司: | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人: | 崔巍 |
| 地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 接触 输送 装置 | ||
1.一种非接触输送装置,在压力流体的供给作用下吸引工件(S1、S2),并在非接触状态下保持并输送该工件,该非接触输送装置(10、100)的特征在于,具备:
主体(12、102),该主体在轴向端部具有面向所述工件的工件保持面(16);
通路(34),该通路形成于所述主体的内部并供从空气供给部(22)供给的所述压力流体流通;
喷嘴(85),该喷嘴设置于所述主体的内部,与所述通路的下游端连通并向径向外侧延伸,并且沿着所述主体的周向设置有多个该喷嘴,该喷嘴将所述通路内的压力流体朝向所述工件保持面导出;以及
凹部(36),该凹部相对于所述工件保持面向轴向凹陷,并将所述喷嘴的径向端部和所述工件保持面连接,
所述喷嘴的在所述主体的轴向上的至少一部分形成为剖面圆弧状并朝向所述工件保持面侧凹陷,该喷嘴朝向径向外侧放射状地延伸。
2.根据权利要求1所述的非接触输送装置,其特征在于,
所述喷嘴形成于偏转器(14),该偏转器收纳于所述主体的中央,并且该偏转器的轴向端部面向所述凹部。
3.根据权利要求1所述的非接触输送装置,其特征在于,
所述喷嘴形成于与所述凹部的内壁面抵接的部位,并且在该喷嘴与所述内壁面之间构成供所述压力流体流通的流路(84)。
4.根据权利要求1所述的非接触输送装置,其特征在于,
在所述工件保持面具备止动机构(18),该止动机构能够在所述工件被吸引时与该工件接触,该止动机构(18)具备:垫部件(86),该垫部件由弹性材料形成且一部分相对于所述工件保持面突出;以及销部件(88),该销部件插入到该垫部件的内部并将所述垫部件固定于所述主体。
5.根据权利要求4所述的非接触输送装置,其特征在于,
所述垫部件具有垫部(92),该垫部向相对于所述工件保持面离开的方向裙状地扩大,并能够与所述工件接触。
6.根据权利要求2所述的非接触输送装置,其特征在于,
所述主体、所述偏转器以及所述垫部件由半导电性材料形成。
7.根据权利要求1所述的非接触输送装置,其特征在于,
在所述主体装卸自如地设置有附属部件(106),该附属部件具备保持部(104),该保持部面向所述工件保持面,并相对于该工件保持面离开规定距离地具有多个开口(120)。
8.根据权利要求1所述的非接触输送装置,其特征在于,
在所述主体装卸自如地设置有附属部件(154),该附属部件具备环状的保持部(158),该保持部成为所述工件保持面侧,并在径向外侧相对于该工件保持面在轴向上延伸。
9.根据权利要求2所述的非接触输送装置,其特征在于,
在所述主体具有端口(22、24),该端口在与所述工件保持面相反的一侧的端部或与轴向大致正交的侧面部开口,所述端口通过所述偏转器的内部与所述凹部连通。
10.根据权利要求3所述的非接触输送装置,其特征在于,
所述流路设定为该流路的沿着径向的长度比该流路的沿着所述偏转器的轴向的深度大。
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