[发明专利]一种低散射特性吸波角锥结构在审

专利信息
申请号: 202110189917.0 申请日: 2021-02-18
公开(公告)号: CN112986934A 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 胡益民;李新涛;郭涛;刘文明;樊迪刚 申请(专利权)人: 南京航天波平电子科技有限公司
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40;G01R29/08
代理公司: 南京苏博知识产权代理事务所(普通合伙) 32411 代理人: 伍兵
地址: 211800 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 散射 特性 吸波角锥 结构
【说明书】:

发明公开了一种低散射特性吸波角锥结构,包括锥体底部和锥体中部;锥体底部具有第一菱形面;锥体中部具有第二菱形面和锥尖,第二菱形面和锥尖位于锥体中部两侧;第二菱形面和锥体底部远离第一菱形面一侧连接,锥体中部和锥体底部一体成型;通过将常规的角锥吸波材料的正方形底部横截面调整为第一菱形面,并且通过在锥体底部上设置的锥体中部,通过调整第一菱形面的尺寸和第二菱形面的尺寸,以及调整第一菱形面与第二菱形面的垂直距离、第二菱形面与锥尖的垂直距离,能够获得更好的低散射特性,进而能够将暗室背景噪声分贝值进一步降低。

技术领域

本发明涉及吸波角锥结构技术领域,尤其涉及一种低散射特性吸波角锥结构。

背景技术

紧缩场电波暗室是用来测量物体的低散射特性的一种暗室。其暗室内部有电磁波金属反射面,具有测试距离短的特点。它是测量被测设备的雷达截面积的测量设备,雷达截面积的大小就是隐身值,雷达截面积计算值由设备的实测的雷达截面积的分贝值与暗室的背景噪声分贝值扣减获得。如果暗室背景噪声分贝值越低,那么暗室能够测量雷达截面积也就越低,测量的系统不确定度越低,因此该值大小是衡量紧缩场暗室技术水平的重要指标。为了提高暗室技术水平,如何解决降低暗室背景噪声分贝值成为暗室用角锥吸波材料发展重点。目前降低暗室背景噪声分贝值是通过改变暗室背景墙的倾斜角度,将主墙与地面的90°垂直方式改成8°~12°倾斜方式,减少电磁波在背景墙反射入暗室静区的能量来实施,也可以通过扭转45°角锥吸波材料的铺设方式减少角锥吸波材料的向前散射特性来获得背景噪声分贝值的降低。但是由于现有的角锥吸波材料的低散射特性不足,获得背景分贝值只能达到-30dB~-40dB,导致获得暗室背景噪声分贝值降低十分有限。

发明内容

本发明的目的在于提供一种低散射特性吸波角锥结构,旨在解决现有的角锥吸波材料的低散射特性不足问题。

为实现上述目的,本发明提供了一种低散射特性吸波角锥结构,包括锥体底部和锥体中部;所述锥体底部具有第一菱形面,所述第一菱形面的两条对角线比值为1:0.3~0.8;所述锥体中部具有第二菱形面和锥尖,所述第二菱形面和所述锥尖位于所述锥体中部两侧;所述第二菱形面和所述锥体底部远离所述第一菱形面一侧连接,所述锥体中部和所述锥体底部一体成型;所述第二菱形面的两条对角线比值为1:0.3~0.8。

其中,所述第二菱形面距所述锥尖的垂直长度与所述第一菱形面距所述锥尖的垂直长度比值为0.3~0.8:1。

其中,所述第一菱形面和所述锥尖的垂直距离为400~700毫米。

其中,所述第一菱形面面积为14cm2~1344cm2;所述第二菱形面面积为1cm2~1000cm2

本发明的一种低散射特性吸波角锥结构,通过将常规的角锥吸波材料的正方形底部横截面调整为所述第一菱形面,并且在所述锥体底部上设置有所述锥体中部,通过调整所述第一菱形面的尺寸和所述第二菱形面的尺寸,以及调整所述第一菱形面与所述第二菱形面的垂直距离、所述第二菱形面与所述锥尖的垂直距离,能够获得更好的低散射特性,进而能够将暗室背景噪声分贝值进一步降低。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明的一种低散射特性吸波角锥结构的实施例的结构示意图;

图2是本发明的一种低散射特性吸波角锥结构的另一实施例的结构示意图;

图3是本发明的一种低散射特性吸波角锥结构的另一实施例的结构示意图。

1-锥体底部、2-锥体中部、10-第一菱形面、20-第二菱形面、21-锥尖。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京航天波平电子科技有限公司,未经南京航天波平电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110189917.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top