[发明专利]环链异构二苯乙烯荧光分子以及制备方法、应用

权利要求书

1.一种环链异构二苯乙烯荧光分子Ⅰ的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

S100、获得二芳基马来酰亚胺；

S200、在还原剂存在的条件下，将含有所述二芳基马来酰亚胺的溶液进行反应，即可得到所述环链异构二苯乙烯荧光分子Ⅰ；

其中，所述二芳基马来酰亚胺选自具有式Ⅱ所示结构式的化合物中的任一种；

式Ⅱ

在式Ⅱ中，Ar选自C₈~C₁₂芳基、C₆~C₁₀取代芳基Ⅰ、C₄~C₉杂芳基Ⅰ中的任一种；

R₁选自C₁~C₈烷基、C₆~C₁₂芳基、C₆~C₁₀取代芳基Ⅱ、C₄~C₉杂芳基Ⅱ中的任一种；

所述C₄~C₉杂芳基Ⅰ、C₄~C₉杂芳基Ⅱ中的杂原子独立地选自S、N中的至少一种；

所述C₆~C₁₀取代芳基Ⅰ、C₆~C₁₀取代芳基Ⅱ中的取代基独立地选自卤素、烷氧基、卤代烷基、叔胺基、硝基、羟基、式a所示基团中的任一种；

式a

式a中，n₁的取值范围为2≤n₁≤6；

所述烷氧基选自具有式b所示结构式的基团中的任一种；

式b

式b中，R₂选自C₁~C₅烷基中的任一种；

所述卤代烷基为C₁~C₅烷基中至少一个H原子被卤素取代后形成的基团；

所述叔胺基选自具有式d所示结构式的基团中的任一种；

式d

式d中，R₄、R₅独立选自C₁~C₅烷基中的任一种。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述Ar选自、、、、、、、、中任一种；

R₁选自

中的任一种。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述还原剂包括硼氢化钠。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤S200中，所述反应经淬灭停止，所述淬灭包括利用淬灭剂进行淬灭，所述淬灭剂包括无机酸类化合物。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述反应的条件为反应温度0~10℃。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在淬灭之后，还包括后处理步骤；

所述后处理步骤包括：

对淬灭后的溶液进行萃取，得到萃取液；

之后除去所述萃取液中的溶剂，再进行层析，即可得到所述环链异构二苯乙烯荧光分子Ⅰ。

7.根据权利要求1至6任一项所述制备方法得到的环链异构二苯乙烯荧光分子Ⅰ作为荧光开关的应用。

8.一种调控荧光开关的方法，其特征在于，所述方法包括：以预设调控方式对环链荧光分子进行调控，使所述环链荧光分子异构化，从而实现荧光发光和荧光淬灭或者减弱之间的转化；

其中，所述预设调控方式包括胺调控、酸碱调控、氧化还原调控、光调控中的任一种；

所述环链荧光分子选自根据权利要求1至6任一项所述制备方法得到的环链异构二苯乙烯荧光分子Ⅰ中的任一种。