[发明专利]一种相位可控MRI图像增强超构表面器件在审
申请号: | 202110183929.2 | 申请日: | 2021-02-10 |
公开(公告)号: | CN114910846A | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 赵乾;池中海;孟永钢;郑卓肇 | 申请(专利权)人: | 清华大学;北京清华长庚医院 |
主分类号: | G01R33/34 | 分类号: | G01R33/34;G01R33/38 |
代理公司: | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人: | 魏朋 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 相位 可控 mri 图像 增强 表面 器件 | ||
1.一种磁场增强器件,其特征在于,包括:
筒形支撑结构(50),具有两个间隔相对的第三端(51)和第四端(53);多个磁场增强组件(10),间隔设置于所述筒形支撑结构(50),并沿着所述第三端(51)向所述第四端(53)延伸;以及
第一环形导电片(510),设置于所述筒形支撑结构(50),并靠近所述第三端(51),所述第一环形导电片(510)具有一个第五开口(501),所述第五开口(501)至少部分位于两个相邻的所述磁场增强组件(10)之间,所述第一环形导电片(510)与所述多个磁场增强组件(10)位于所述第三端(51)的部分电连接;以及
第二环形导电片(520),设置于所述筒形支撑结构(50),并靠近所述第四端(53),所述第二环形导电片(520)具有一个第六开口(502),所述第六开口(502)至少部分位于两个相邻的所述磁场增强组件(10)之间,所述第二环形导电片(520)与所述多个磁场增强组件(10)位于所述第四端(53)的部分电连接。
2.如权利要求1所述的磁场增强器件,其特征在于,所述第五开口(501)和所述第六开口(502)位于相邻的两个所述磁场增强组件(10)之间。
3.如权利要求2所述的磁场增强器件,其特征在于,所述筒形支撑结构(50)具有位于所述第三端(51)和所述第四端(53)之间的中心对称面(506),所述第五开口(501)和所述第六开口(502)关于所述中心对称面(506)对称。
4.如权利要求2所述的磁场增强器件,其特征在于,所述第五开口(501)对应的弧长和所述第六开口(502)对应的弧长小于相邻的两个所述磁场增强组件(10)之间的弧长。
5.如权利要求4所述的磁场增强器件,其特征在于,所述第五开口(501)对应的弧长和所述第六开口(502)对应的弧长是相邻的两个所述磁场增强组件(10)之间的弧长的三分之一到二分之一。
6.如权利要求1所述的磁场增强器件,其特征在于,所述磁场增强组件(10)包括:
第一电介质层(100),包括相对设置的第一表面(101)和第二表面(102);
第一电极层(110),设置于所述第一表面(101),所述第一电极层(110)覆盖部分所述第一表面(101),所述第一电极层(110)与所述第一环形导电片(510)连接;
第二电极层(120),设置于所述第二表面(102),所述第二电极层(120)覆盖部分所述第二表面(102),所述第一电极层(110)在所述第一电介质层(100)的投影与所述第二电极层(120)在所述第一电介质层(100)的投影部分重叠,所述第二电极层(120)与所述第二环形导电片(520)连接。
7.如权利要求6所述的磁场增强器件,其特征在于,所述第一电极层(110)和所述第二电极层(120)在所述第一电介质层(100)投影重合的部分位于所述第一电介质层(100)的中部。
8.如权利要求7所述的磁场增强器件,其特征在于,还包括:
第三电极层(130),设置于所述第一表面(101),与所述第一电极层(110)间隔设置,所述第一电介质层(100)包括相对的第一端(103)和第二端(104),所述第三电极层(130)由所述第一端(103)向所述第二端(104)延伸,并覆盖部分所述第一表面(101),所述第二电极层(120)与所述第三电极层(130)电连接。
9.如权利要求6所述的磁场增强器件,其特征在于,所述第一电极层(110)靠近所述第二电极层(120)的一端具有第一豁口(411),所述第二电极层(120)靠近所述第一电极层(110)的一端具有第二豁口(412),所述第一豁口(411)和所述第二豁口(412)在所述第一电介质层(100)的正投影重合。
10.如权利要求6所述的磁场增强器件,其特征在于,还包括第一开关控制电路(430),所述第一开关控制电路(430)的两端分别与所述第一电极层(110)和所述第二电极层(120)连接,所述第一开关控制电路(430)用于在射频发射阶段导通,在射频接收阶段断开。
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