[发明专利]磁场增强组件以及磁场增强器件在审

专利信息
申请号: 202110183910.8 申请日: 2021-02-10
公开(公告)号: CN114910838A 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 赵乾;池中海;孟永钢;郑卓肇;周济 申请(专利权)人: 清华大学;北京清华长庚医院
主分类号: G01R33/34 分类号: G01R33/34;G01R33/38
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 魏朋
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁场 增强 组件 以及 器件
【权利要求书】:

1.一种磁场增强组件,其特征在于,所述磁场增强组件包括:

第一电介质层(100),具有相对设置的第一表面(101)与第二表面(102),所述第一电介质层(100)具有相对设置的第一端(103)与第二端(104);

第一电极层(110),设置于所述第一表面(101),并靠近所述第二端(104)设置;

第二电极层(120),设置于所述第一表面(101),并与所述第一电极层(110)间隔设置,且靠近所述第一端(103)设置;

第三电极层(130),设置于所述第二表面(102),并靠近所述第二端(104)设置,所述第三电极层(130)在所述第一电介质层(100)的正投影和所述第一电极层(110)在所述第一电介质层(100)的正投影部分重合,形成第二结构电容(302);

第四电极层(140),设置于所述第二表面(102),并与所述第三电极层(130)间隔设置,且靠近所述第一端(103)设置,所述第四电极层(140)在所述第一电介质层(100)的正投影和所述第二电极层(120)在所述第一电介质层(100)的正投影部分重合,形成第三结构电容(303);

第三谐振电路(400),所述第三谐振电路(400)的一端与所述第二电极层(120)远离所述第一端(103)的一端电连接,所述第三谐振电路(400)的另一端与所述第一电极层(110)远离所述第二端(104)的一端电连接。

2.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第三谐振电路(400)与所述第三结构电容(303)之间的所述第二电极层(120)的宽度小于所述第一电介质层(100)的宽度;

所述第三谐振电路(400)与所述第二结构电容(302)之间的所述第一电极层(110)的宽度小于所述第一电介质层(100)的宽度。

3.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第三谐振电路(400)包括:

第六电容(306),所述第六电容(306)的一端与所述第二电极层(120)远离所述第一端(103)的一端电连接,所述第六电容(306)的另一端与所述第一电极层(110)远离所述第二端(104)的一端电连接。

4.如权利要求3所述的磁场增强组件,其特征在于,沿着所述第一端(103)至所述第二端(104)的方向,所述第六电容(306)与所述第三结构电容(303)之间的所述第二电极层(120)的长度和所述第六电容(306)与所述第二结构电容(302)之间的所述第一电极层(110)的长度的比例为1:9。

5.如权利要求3所述的磁场增强组件,其特征在于,所述磁场增强组件还包括:

第五电极层(141),设置于所述第一表面(101),并与所述第一电极层(110)和所述第二电极层(120)均间隔设置,所述第五电极层(141)设置于所述第一电极层(110)与所述第二电极层(120)之间;

所述第六电容(306)的一端与所述第二电极层(120)远离所述第一端(103)的一端电连接,所述第六电容(306)的另一端与所述第五电极层(141)靠近所述第二电极层(120)的一端电连接;

第六电极层(121),设置于所述第二表面(102),并与所述第三电极层(130)和所述第四电极层(140)均间隔设置,所述第六电极层(121)设置于所述第四电极层(140)与所述第三电极层(130)之间,所述第六电极层(121)在所述第一电介质层(100)的正投影和所述第五电极层(141)在所述第一电介质层(100)的正投影部分重合,形成第一结构电容(301);

第四电感(307),所述第四电感(307)的一端与所述第六电极层(121)靠近所述第三电极层(130)的一端电连接,所述第四电感(307)的另一端与所述第三电极层(130)远离所述第二端(104)的一端电连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;北京清华长庚医院,未经清华大学;北京清华长庚医院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110183910.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top