[发明专利]一种扰流式晶圆去膜设备在审
申请号: | 202110154427.7 | 申请日: | 2021-02-04 |
公开(公告)号: | CN112992770A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 刘青云 | 申请(专利权)人: | 广州兴金五金有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 510665 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 扰流式晶圆去膜 设备 | ||
本发明公开了一种扰流式晶圆去膜设备,其结构包括控制台、操作台、伸缩盒、机体,控制台嵌固于机体的边侧位置,伸缩盒与机体的内部活动卡合,操作台安装于伸缩盒的上表面位置,通过晶圆对操作台上的四个夹持块之间产生的挤压,能够使夹持块沿着连接杆向后收缩,再通过永久磁铁材质的反吸块与吸力块同极相对产生的排斥,则能够使四个夹持块对晶圆进行夹持,通过伸缩盒向外拉扯产生的振动,能够使内转环在衔接珠的配合下沿着外环体的内侧进行转动,从而使上置板能够受内转环转动的甩力向上伸出,故而使上置板能够将晶圆向上顶起,有效的避免了晶圆在取出时会出现倾斜的情况。
技术领域
本发明涉及晶圆涂膜领域,具体的是一种扰流式晶圆去膜设备。
背景技术
扰流式晶圆去膜机主要是用于对晶圆进行去膜的设备,通过将晶圆放置在扰流式晶圆去膜机内部,且通过内部快速吹出气流,从而使晶圆上表面的薄膜压强能够减小,从而能够轻松的将晶圆上表面的薄膜吹除,基于上述描述本发明人发现,现有的一种扰流式晶圆去膜设备主要存在以下不足,例如:
由于部分扰流式晶圆去膜机内部放置晶圆的操作台表面平整,若晶圆的底部有焊接电路的焊接凸点,则容易出现晶圆在操作台上被气流吹动后出现摆动,从而使晶圆上的压强会出现反复变化,以至于不利于晶圆上表面的薄膜被快速吹除。
发明内容
针对上述问题,本发明提供一种扰流式晶圆去膜设备。
为了实现上述目的,本发明是通过如下的技术方案来实现:一种扰流式晶圆去膜设备,其结构包括控制台、操作台、伸缩盒、机体,所述控制台嵌固于机体的边侧位置,所述伸缩盒与机体的内部活动卡合,所述操作台安装于伸缩盒的上表面位置;所述操作台包括外接环、吸力块、夹持块、反吸块、连接杆,所述吸力块嵌入于外接环的内部位置,所述夹持块与连接杆的内侧活动卡合,所述反吸块与夹持块为一体化结构,所述连接杆固定于外接环的内侧位置。
作为本发明的进一步优化,所述夹持块包括板体、弹力片、保护块、受力板,所述弹力片安装于受力板的内侧与板体的底部位置,所述保护块嵌固于受力板的底部位置,所述保护块采用质地柔软的天然橡胶材质。
作为本发明的进一步优化,所述受力板包括弹力条、透气口、板面、承载板,所述弹力条安装于板面的内侧与承载板的内壁上端位置,所述透气口与板面为一体化结构,所述板面与承载板的底部活动卡合,所述透气口设有两个,且均匀在板面的左右两侧呈对称分布。
作为本发明的进一步优化,所述板面包括联动杆、增流片、中接辊、外接框,所述联动杆与外接框为一体化结构,所述增流片与中接辊的边侧相连接,所述中接辊与联动杆的底部活动卡合,所述增流片设有六个,且均匀在中接辊上呈平行分布。
作为本发明的进一步优化,所述外接环包括外环体、衔接珠、固定块、内转环,所述衔接珠与固定块的边侧相连接,所述固定块嵌固于内转环的外侧位置,所述内转环与环体为一体化结构,所述衔接珠设有六个,且均匀在外环体与内转环之间呈圆形分布。
作为本发明的进一步优化,所述内转环包括上置板、打底板、反弹片,所述上置板通过反弹片与打底板的上端相连接,所述反弹片采用弹性较强的弹簧钢材质。
作为本发明的进一步优化,所述上置板包括承载板、撞击块、内接片,所述撞击块安装于承载板的内部位置,所述内接片嵌固于承载板的内壁上端位置,所述撞击块采用密度较大的合金钢材质。
本发明具有如下有益效果:
1、通过晶圆对操作台上的四个夹持块之间产生的挤压,能够使夹持块沿着连接杆向后收缩,再通过永久磁铁材质的反吸块与吸力块同极相对产生的排斥,则能够使四个夹持块对晶圆进行夹持,有效的避免了晶圆的底部有焊接电路的焊接凸点,则容易出现晶圆在操作台上被气流吹动后出现摆动的情况。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造