[发明专利]发光装置在审
申请号: | 202110073463.0 | 申请日: | 2012-04-13 |
公开(公告)号: | CN112750932A | 公开(公告)日: | 2021-05-04 |
发明(设计)人: | 陈怡名;谢明勋;许嘉良 | 申请(专利权)人: | 晶元光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 | ||
1.一种发光装置,其特征在于,包含︰
第一电极;
发光叠层,位于该第一电极之上且具有侧壁,该发光叠层包含主动层以及第一半导体层,该第一半导体层具有上表面;
电连接结构,位于该上表面之上且于该侧壁延伸,电连接该第一电极与该第一半导体层;以及
第二电极,与该主动层重叠且与该第一电极不重叠;
其中该第一电极具有第一部分与该主动层重叠以及第二部分与该电连接结构重叠。
2.一种发光装置,其特征在于,包含︰
支持基板;
多个发光单元,位于该支持基板上且包含发光叠层;
第一电极,电连接于该发光叠层,
绝缘层,位于该第一电极与该发光叠层之间;
第二电极,电连接于该发光叠层,且与该第一电极不重叠;以及
黏结层,位于该支持基板与该多个发光单元之间;
其中,该黏结层的材料为绝缘材料,且该绝缘层与该第一电极和该第二电极直接接触。
3.一种发光装置,其特征在于,包含︰
第一电极;
发光叠层,位于该第一电极之上,包含主动层;
凹部,位于该发光叠层中;
接触层,位于该发光叠层之上且与该主动层重叠;以及
导电柱,位于该凹部中且电连接该第一电极与该接触层;
其中该第一电极具有第一部分与该主动层重叠以及第二部分与该导电柱重叠,该凹部的面积小于该第一电极的面积,且该接触层的宽度大于该导电柱的宽度。
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