[发明专利]三维点云配准方法、装置、电子设备及可读介质

权利要求书

1.一种三维点云配准方法，其特征在于，包括：

获取待配准点云和基准点云；

确定所述待配准点云在二维平面的第一投影图像，所述第一投影图像包括多个第一像素点，每个第一像素点对应至少一个待配准点云；

确定所述基准点云在二维平面的第二投影图像，所述第二投影图像包括多个第二像素点，每个第二像素点对应至少一个基准点云；

根据所述第一投影图像的第一像素点和所述第二投影图像中的第二像素点确定匹配像素点对，每个匹配像素点对包括一第一像素点和一第二像素点；

根据所述匹配像素点中的第一像素点对应的至少一个待配准点云，和所述匹配像素点中的第二像素点对应的至少一个基准点云确定变换矩阵，以根据所述变化矩阵对所述待配准点云进行点云配准操作。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，确定所述待配准点云在二维平面的第一投影图像包括：

根据所述待配准点云在二维平面的投影位置对二维平面进行划分，获得所述多个第一像素点；

根据所述第一像素点对应的至少一个待配准点云的反射强度信息确定所述第一像素点的灰度值；

根据所述第一像素点的灰度值生成所述第一投影图像。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，根据所述第一像素点对应的至少一个待配准点云的反射强度信息确定所述第一像素点的灰度值包括：

获取所述待配准点云的反射强度信息；

将所述待配准点云的反射强度信息中的最小值确定为待配准点云的全局最小反射强度，将所述待配准点云的反射强度信息中的最大值确定为待配准点云的全局最大反射强度；

根据所述第一像素点对应的至少一个待配准点云的反射强度信息确定所述第一像素点的反射子强度；

根据所述待配准点云的全局最小反射强度、所述待配准点云的全局最大反射强度和所述第一像素点的反射子强度确定所述第一像素点的灰度值。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述第一投影图像的第一像素点和所述第二投影图像中的第二像素点确定匹配像素点对包括：

对所述第一像素点进行特征提取，获得所述第一像素点的第一特征向量；

对所述第二像素点进行特征提取，获得所述第二像素点的第二特征向量；

确定所述第一像素点的第一特征向量和各第二像素点的第二特征向量的特征距离；

将所述特征距离最小的所述第一像素点和第二像素点和确定为匹配点对。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，还包括：

确定所述特征距离中的最小值和次小值的特征距离比值；

若所述特征距离比值大于特征距离比值阈值，则将所述匹配点对剔除。

6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，还包括：

确定所述第一投影图像和所述第二投影图像的单应变换；

将单应变换后的误差大于误差像素阈值的匹配点对剔除。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述匹配像素点中的第一像素点对应的至少一个待配准点云，和所述匹配像素点中的第二像素点对应的至少一个基准点云确定变换矩阵包括：

将所述匹配像素点中的第一像素点对应的待配准点云中具有最低高程值的待配准点云确定为第一点云；

将所述匹配像素点中的第二像素点对应基准点云中具有最低高程值的基准点云确定为第二点云；

将所述第一点云和所述第二点云作为匹配点云对确定所述变换矩阵。