[发明专利]一种挡板装置和曝光机

说明书

本发明提供一种挡板装置和曝光机，所述曝光机包括位于所述挡板装置上方的掩模版，所述挡板装置包括多个挡板装置，所述多个挡板装置围成位于所述掩模版下方的透光区，所述挡板装置上具有高度调整机构。所述挡板装置根据要形成的遮光区域在水平方向移动，由于挡板装置在不同的位置时其边缘与所述掩模版的纵向距离可能不同，而所述纵向距离越大则产生的灰区范围越大。所述高度调整机构可以控制所述挡板装置的边缘在水平移动的过程中与所述掩模版的纵向距离大于零且小于第一预设距离，这样不会使挡板装置刮伤掩模版，而且还可以使掩模版到挡板装置边缘的纵向距离保持在较小范围，进而可以减小灰区范围，从而提高挡板装置的精度。

技术领域

本发明涉及光刻装置，尤其设计一种挡板装置和曝光机。

背景技术

在光刻技术中，曝光机一般包括光源、掩模版以及透镜。掩模版是一种表面被各种图案覆盖的玻璃板，光源通过掩模版可将图案投射到涂有光刻胶的晶片上，生成三维的浮雕图案，用于辅助在晶片上刻蚀电路图案。

在实际使用过程中，可能有将掩模版上的图案部分投射的需求，即进行部分曝光。因此可以在掩模版和晶片之间加设挡板，将不需要进行曝光的部分用挡板遮住以阻挡光线透过，而将光线限制在需要曝光的部分，通过挡板来控制光照射区域的面积，从而可以实现部分曝光。

然而，在挡板的边缘处会发生光的衍射，在图案转移过程中会在挡板边缘处产生一定距离的灰区，在此区域内图案会有一定程度的失真，这是生产中难以避免的不利因素。

发明内容

本发明的目的在于提供一种挡板装置和曝光机，可以减小灰区，从而提高挡板精度，同时可以减少掩模版的刮伤。

一方面，本发明提供一种挡板装置，应用于曝光机，所述曝光机包括位于所述挡板装置上方的掩模版，多个所述挡板装置围成位于所述掩模版下方的透光区，所述挡板装置上具有高度调整机构，所述高度调整机构用于控制所述挡板装置的边缘在水平移动的过程中与所述掩模版的纵向距离大于零且小于第一预设距离。

进一步优选的，所述挡板装置包括在垂直于所述纵向设置的横向挡板主体，在所述纵向设置且与所述横向挡板主体连接的固定竖直挡体，以及通过所述高度调整机构与所述固定竖直挡体连接的活动竖直挡体，所述固定竖直挡体设置在所述横向挡板主体靠近所述透光区的一端；

所述高度调整机构控制所述活动竖直挡体在所述纵向移动，以使所述活动竖直挡体的边缘在水平移动的过程中与所述掩模版的纵向距离大于零且小于所述第一预设距离。

进一步优选的，所述固定竖直挡体的顶部设置有测距器，用于测量所述固定竖直挡体的顶部到所述掩模版的底表面的纵向距离。

进一步优选的，所述掩模版的中心处低于边缘处，所述掩模版在所述中心处具有最大下垂值，所述固定竖直挡体的高度大于所述最大下垂值。

进一步优选的，当所述活动竖直挡体位于所述掩模版的边缘处，所述测距器检测到的纵向距离最大，所述活动竖直挡体处于第一高度；当所述测距器检测到的纵向距离减小第一距离时，所述活动竖直挡体向下移动所述第一距离。

进一步优选的，所述固定竖直挡体与所述横向挡板主体靠近所述透光区的边缘的距离小于第二预设距离。

进一步优选的，所述高度调整机构为相互啮合的齿轮和齿条，所述齿轮安装于所述固定竖直挡体上，所述齿条安装于所述活动竖直挡体上。

进一步优选的，所述横向挡板主体的右端具有垂直拐角。

进一步优选的，所述活动竖直挡体的上端具有垂直拐角。

另一方面，本发明提供一种曝光机，包括上述任一项所述的挡板装置。