[发明专利]一种挡板装置和曝光机

权利要求书

1.一种挡板装置，应用于曝光机，其特征在于，所述曝光机包括位于所述挡板装置上方的掩模版，其特征在于，多个所述挡板装置围成位于所述掩模版下方的透光区，所述挡板装置上具有高度调整机构，所述高度调整机构用于控制所述挡板装置的边缘在水平移动的过程中与所述掩模版的纵向距离大于零且小于第一预设距离；

所述挡板装置包括在垂直于所述纵向设置的横向挡板主体，在所述纵向设置且与所述横向挡板主体连接的固定竖直挡体，以及通过所述高度调整机构与所述固定竖直挡体连接且沿所述纵向设置的活动竖直挡体，所述固定竖直挡体设置在所述横向挡板主体靠近所述透光区的一端，所述固定竖直挡体与所述横向挡板主体靠近所述透光区的边缘的距离小于第二预设距离，以减少高度调整机构处的漏光；

所述高度调整机构用于控制所述活动竖直挡体在所述纵向移动，以使所述活动竖直挡体的边缘在水平移动的过程中与所述掩模版的纵向距离大于零且小于所述第一预设距离。

2.根据权利要求1所述的挡板装置，其特征在于，所述固定竖直挡体的顶部设置有测距器，用于测量所述固定竖直挡体的顶部到所述掩模版的底表面的纵向距离。

3.根据权利要求2所述的挡板装置，其特征在于，所述掩模版的中心处低于边缘处，所述掩模版在所述中心处具有最大下垂值，所述固定竖直挡体的高度大于所述最大下垂值。

4.根据权利要求3所述的挡板装置，其特征在于，当所述活动竖直挡体位于所述掩模版的边缘处，所述测距器检测到的纵向距离最大，所述活动竖直挡体处于第一高度；当所述测距器检测到的纵向距离减小第一距离时，所述活动竖直挡体向下移动所述第一距离。

5.根据权利要求1所述的挡板装置，其特征在于，所述高度调整机构为相互啮合的齿轮和齿条，所述齿轮安装于所述固定竖直挡体上，所述齿条安装于所述活动竖直挡体上。

6.根据权利要求1所述的挡板装置，其特征在于，所述横向挡板主体的右端具有垂直拐角。

7.根据权利要求1所述的挡板装置，其特征在于，所述活动竖直挡体的上端具有垂直拐角。

8.一种曝光机，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的挡板装置。