[发明专利]一种可调节的电镀设备

说明书

本发明公开了一种可调节的电镀设备，其结构包括支架、机体、控制面板，机体焊接在支架顶端，控制面板位于机体上方，机体设有抛光腔、排料口、分散杆、上推机构，抛光腔位于机体内部，排料口贯穿机体右侧面中心位置，由于抛光腔四周角落的金属铜受到的推力小为静止状，通过上推机构的推板将堆积在抛光腔四周角落的物件推动位移，减少角落的金属铜长时间受到磨料的冲击发生形变，能够提高金属铜的电镀质量，由于金属铜质地柔软，抛光掉落的毛刺体积小受到挤压力易粘在物件外壁，通过引流槽对抛光掉落的毛刺收集，能够减少毛刺与磨料混合，减少体积较小的毛刺受到挤压力再次粘在物件外壁。

技术领域

本发明属于电镀领域，更具体的说，尤其涉及到一种可调节的电镀设备。

背景技术

对金属电镀之前采用电镀抛光机对金属抛光预处理，往抛光机的抛光腔中加入待电镀的金属物件和磨料，电机带动分散杆转动，分散杆将金属物件与磨料混合，磨料将金属物件外壁的毛刺去除，根据金属数量调节控制面板，对金属的抛光时间控制；现有技术中采用电镀抛光机对金属抛光预处理时，抛光的物件为金属铜时，由于金属铜的质地柔软，而分散杆将堆积在抛光腔中部的磨料和金属铜往四周角落推动，抛光腔四周角落的金属铜受到的推力小为静止状，角落的金属铜长时间受到磨料的冲击易发生形变，导致金属铜的电镀质量降低。

发明内容

为了解决上述技术采用电镀抛光机对金属抛光预处理时，抛光的物件为金属铜时，由于金属铜的质地柔软，而分散杆将堆积在抛光腔中部的磨料和金属铜往四周角落推动，抛光腔四周角落的金属铜受到的推力小为静止状，角落的金属铜长时间受到磨料的冲击易发生形变，导致金属铜的电镀质量降低，本发明提供一种可调节的电镀设备。

为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种可调节的电镀设备，其结构包括支架、机体、控制面板，所述机体焊接在支架顶端，所述控制面板位于机体上方。

所述机体设有抛光腔、排料口、分散杆、上推机构，所述抛光腔位于机体内部，所述排料口贯穿机体右侧面中心位置，所述分散杆安装在抛光腔内底部中心位置，所述上推机构分别固定在抛光腔底面四周边角位置。

作为本发明的进一步改进，所述上推机构设有支撑板、推板、伸缩杆、连接杆、配合轮，所述支撑板位于上推机构下方，所述推板通过伸缩杆安装在支撑板上方，所述连接杆分别垂直固定在支撑板上表面和推板下表面，所述配合轮与连接杆末端相连接，所述伸缩杆设有两个，呈左右对称分布。

作为本发明的进一步改进，所述推板设有卡槽、引流槽、推块、扩张轮，所述卡槽凹陷在推板上表面，所述引流槽贯穿推板上表面和两端中部之间，所述扩张轮套在卡槽内部，所述推块安装在扩张轮中部与卡槽内底部之间，所述扩张轮设有五个。

作为本发明的进一步改进，所述扩张轮设有支撑环、分散板、弹条，所述支撑环设在扩张轮中部，所述分散板通过弹条安装在支撑环外壁，所述分散板外壁为凹凸不平的表面。

作为本发明的进一步改进，所述引流槽设有限位块、滤板、推杆、形变块，所述限位块与引流槽顶端内壁连为一体，所述滤板设在引流槽内顶部，且夹在限位块之间，所述推杆垂直固定在滤板底面，所述形变块安装在引流槽内壁，且与推杆底端活动配合，所述推杆底端与形变块活动配合的位置为弧面状。

作为本发明的进一步改进，所述形变块设有支撑块、衔接轴、摆动杆、形变板、气腔、开口，所述支撑块位于形变块右侧面，所述摆动杆通过衔接轴衔接安装在支撑块左侧面，所述形变板固定在支撑块左侧，且与摆动杆活动配合，所述气腔设在形变板和支撑块之间，所述开口贯穿形变板底端左侧面和内壁之间，所述摆动杆设有两个，且底端连接着圆球。

有益效果

与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：

1、由于抛光腔四周角落的金属铜受到的推力小为静止状，通过上推机构的推板将堆积在抛光腔四周角落的物件推动位移，减少角落的金属铜长时间受到磨料的冲击发生形变，能够提高金属铜的电镀质量。