[发明专利]基板旋转装置

权利要求书

1.一种基板旋转装置，是用于成膜的基板旋转装置，其特征在于，具备：

主旋转机构，所述主旋转机构以第一旋转轴为中心进行旋转；

副旋转机构，所述副旋转机构随着所述主旋转机构的旋转而绕所述第一旋转轴进行公转，并且所述副旋转机构以第二旋转轴为中心进行自转；以及

导引结构，所述导引结构设置在所述第一旋转轴的周围，并且控制所述副旋转机构的公转运动，并且

所述主旋转机构具备所述副旋转机构，

所述第二旋转轴在对应于所述第一旋转轴的径向上位移，

所述副旋转机构具有支承作为成膜对象的基板的支承结构，

所述支承结构以所述第二旋转轴为中心进行旋转，

所述导引结构具有在对应千所述第一旋转轴的周向上延伸的接触面，

所述导引结构控制所述第二旋转轴在所述径向上的位移，并且，当所述接触面与所述副旋转机构接触时，所述导引结构使所述副旋转机构在沿着所述接触面的轨道上进行公转运动。

2.根据权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，

所述接触面是所述导引结构具有的面向所述第一旋转轴的内周面，

所述内周面限制所述副旋转机构朝所述径向的外侧位移。

3.根据权利要求1或2所述的基板旋转装置，其特征在千，

所述主旋转机构具有以所述第一旋转轴为中心进行旋转的旋转板，

所述旋转板具有沿着所述径向的缝隙，

所述副旋转机构具有：

贯穿所述缝隙的所述第二旋转轴；

配置在所述第二旋转轴的第一端部并具有所述支承结构的旋转台；以及

配置在位千所述第一端部的相反侧的第二端部并在所述接触面上行驶的轮子，

在所述轮子随着所述公转运动而在所述接触面上行驶期间，所述轮子和通过所述第二旋转轴与所述轮子连结的所述旋转台进行自转。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板旋转装置，其特征在于，

所述副旋转机构经由弹簧与所述主旋转机构连结，所述弹簧朝使得所述副旋转机构压靠所述接触面的方向对所述副旋转机构施力。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的基板旋转装置，其特征在于，

所述副旋转机构在椭圆轨道上绕所述第一旋转轴进行公转运动。

6.根据权利要求5所述的基板旋转装置，其特征在千，

所述接触面在所述周向上呈椭圆形而配置。

7.根据权利要求1～4中任一项所述的基板旋转装置，其特征在千，

所述接触面在所述周向上呈非点对称的环形而配置，

所述副旋转机构在非点对称的轨道上绕所述第一旋转轴进行公转运动。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的基板旋转装置，其特征在千，

所述导引结构具备滑动机构，所述滑动机构用千使所述接触面的至少一部分在所述径向上移动。