[发明专利]用于处理基材的系统和方法

权利要求书

1.一种用于处理金属基材的系统，包括：

第一预处理组合物，包括：包含IVA族金属和/或IVB族金属的氟金属酸和基于所述第一预处理组合物的总重量，量为10ppm至500ppm的游离氟化物，并且具有1.0至4.0的pH；和

第二预处理组合物，包括IVB族金属和基于所述第二预处理组合物的总重量，量为15ppm至200ppm的游离氟化物；或

第三预处理组合物，包括镧系金属和氧化剂。

2.根据权利要求1所述的系统，其中基于所述第一预处理组合物的总重量，所述IVA族金属以10ppm至1,500ppm的量存在于所述第一预处理组合物中。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中基于所述第一预处理组合物的总重量，所述IVB族金属以200ppm至5,000ppm的量存在于第一预处理组合物中。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中基于所述第二预处理组合物的总重量，所述IVB族金属以20ppm至1,000ppm的量存在于所述第二预处理组合物中。

5.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中所述第二预处理组合物进一步包括正电性金属、IA族金属、VIB族金属、VIIIB族金属和/或氧化剂。

6.根据权利要求5所述的系统，其中基于所述第二预处理组合物的总重量，所述正电性金属以2ppm至100ppm的量存在于所述第二预处理组合物中；基于所述第二预处理组合物的总重量，所述IA族金属以2ppm至500ppm的量存在于所述第二预处理组合物中；基于所述第二预处理组合物的总重量，所述VIB族金属以5ppm至500ppm的量存在于所述第二预处理组合物中；基于所述第二预处理组合物的总重量，所述VIIIB族金属以0.1ppm至50ppm的量存在于所述第二预处理组合物中；和/或基于所述第二预处理组合物的总重量，所述氧化剂以50ppm至13,000ppm的量存在于所述第二预处理组合物中。

7.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中基于所述第三预处理组合物的总重量，所述镧系金属以5ppm至25,000ppm的量存在于所述第三预处理组合物中。

8.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中基于所述第三预处理组合物的总重量，所述氧化剂以25ppm至13,000ppm的量存在于所述第三组合物中。

9.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中基于所述第三预处理组合物的总重量，所述第三预处理组合物含有小于2重量％的明胶、镧系元素氧化物和/或铜。

10.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中基于所述第三预处理组合物的总重量，所述第三预处理组合物含有小于0.5重量％的明胶、镧系元素氧化物和/或铜。

11.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中所述第三预处理组合物完全不含明胶、镧系元素氧化物和/或铜。

12.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中基于所述第一预处理组合物、第二预处理组合物和/或第三预处理组合物的总重量，所述第一预处理组合物、第二预处理组合物和/或第三预处理组合物含有小于2重量％的磷酸盐。

13.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中基于所述第一预处理组合物、第二预处理组合物和/或第三预处理组合物的总重量，所述第一预处理组合物、第二预处理组合物和/或第三预处理组合物含有小于0.5重量％的磷酸盐。

14.根据权利要求1或权利要求2所述的系统，其中所述第一预处理组合物、第二预处理组合物和/或第三预处理组合物完全不含磷酸盐。