[发明专利]压电元件在审

专利信息
申请号: 202080062313.3 申请日: 2020-05-25
公开(公告)号: CN114342098A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 岸本谕卓;池内伸介;铃木胜之;黑川文弥 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H01L41/047 分类号: H01L41/047;H01L41/187;H01L41/29;H03H9/17
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李国华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 压电 元件
【说明书】:

在压电元件(100)中,第二电极层(130)位于单晶压电体层(110)的第二面(112)侧。在第二电极层(130)形成有与贯通孔(113)面对的孔部(131)。第二电极层(130)由Pt、Ti、Al、Cu、Au、Ag、Mg或者包含这些金属中的至少一种作为主成分的合金构成。第三电极层(140)配置在第二电极层(130)的与单晶压电体层(110)侧相反的一侧。第三电极层(140)设置为至少具有在从与第二面(112)垂直的方向观察时与孔部(131)的缘部(132)隔开间隔地位于比孔部(131)的缘部(132)靠外侧的位置的部分。第三电极层(140)由Ni或者包含Ni作为主成分的合金构成。

技术领域

本发明涉及压电元件。

背景技术

作为公开了压电元件的结构的文献,具有日本特开2008-244725号公报(专利文献1)。专利文献1所记载的压电元件是包括单个或多个压电薄膜谐振器的压电薄膜器件。压电薄膜器件具备压电体薄膜、电极以及支承体。电极分别形成在压电体薄膜的两个主面,在对置区域隔着压电体薄膜而对置。下表面电极形成于压电体薄膜的下表面,上表面电极形成于压电体薄膜的上表面。支承体支承所述压电体薄膜。在压电体薄膜形成有贯穿压电体薄膜的下表面与上表面之间的导通孔。在压电元件的制造方法中,进行压电体薄膜的蚀刻,形成贯穿压电体薄膜的上表面与下表面之间的导通孔而使下表面电极露出。

在先技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2008-244725号公报

发明内容

发明要解决的课题

在现有的压电元件中,在从单晶压电体层的第一面侧到第二面侧通过蚀刻而形成贯通孔时,有时蚀刻未停止,在位于第二面侧的电极层也与上述贯通孔连续地形成贯通孔。此外,如果在电极层形成贯通孔之后蚀刻也没有停止,则有时与电极层的贯通孔连续地在位于该电极层的与单晶压电体层侧相反的一侧的构件也通过蚀刻形成不期望的孔。

本发明是鉴于上述问题而完成的,其目的在于,提供一种在单晶压电体层的贯通孔形成时能够抑制在位于电极层的与单晶压电体层侧相反的一侧的构件形成孔的压电元件。

用于解决课题的手段

本发明的第一方面的压电元件具备单晶压电体层、第一电极层、第二电极层以及第三电极层。单晶压电体层具有第一面、第二面以及贯通孔。第二面位于第一面的相反侧。贯通孔从第一面贯穿至第二面。第一电极层设置在单晶压电体层的第一面侧。第二电极层位于单晶压电体层的第二面侧。第二电极层的至少一部分隔着单晶压电体层而与第一电极层对置。在第二电极层形成有与贯通孔面对的孔部。第二电极层由Pt、Ti、Al、Cu、Au、Ag、Mg或者包含这些金属中的至少一种作为主成分的合金构成。第三电极层配置在第二电极层的与单晶压电体层侧相反的一侧。第三电极层设置为至少具有在从与第二面垂直的方向观察时与孔部的缘部隔开间隔地位于比孔部的缘部靠外侧的位置的部分。第三电极层由Ni或者包含Ni作为主成分的合金构成。

本发明的第二方面的压电元件具备单晶压电体层、第一电极层、第二电极层以及第三电极层。单晶压电体层具有第一面、第二面以及贯通孔。第二面位于第一面的相反侧。贯通孔从第一面贯穿至第二面。第一电极层设置在单晶压电体层的第一面侧。第二电极层位于单晶压电体层的第二面侧。第二电极层的至少一部分隔着单晶压电体层而与第一电极层对置。在第二电极层形成有与贯通孔面对的孔部。第三电极层配置在第二电极层的与单晶压电体层侧相反的一侧。第三电极层设置为至少具有在从与第二面垂直的方向观察时与孔部的缘部隔开间隔地位于比孔部的缘部靠外侧的位置的部分。构成第三电极层的材料与构成第二电极层的材料相比,用CF4气体进行蚀刻的蚀刻速率小。

发明效果

根据本发明,在单晶压电体层的贯通孔形成时,能够抑制在位于电极层的与单晶压电体层侧相反的一侧的构件形成孔。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080062313.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top