[发明专利]含研磨用添加剂液体的过滤方法、含研磨用添加剂液体、研磨用组合物、研磨用组合物的制造方法及过滤器

说明书

提供：一种含添加剂液体的过滤方法，其能够实现维持实用的过滤器寿命并显示优异的缺陷减少能力的研磨用组合物。通过本发明提供的含研磨用添加剂液体的过滤方法包括利用满足以下条件(1)及(2)的过滤器对上述含研磨用添加剂液体进行过滤的工序。(1)用孔径分布测定仪测定的平均孔径P为0.15μm以下。(2)利用SEM观察测定的入口侧平均孔径S_in与出口侧平均孔径S_out的比即孔径梯度(S_in/S_out)为3以下。

技术领域

本发明涉及含添加剂液体的过滤方法。详细而言，涉及液体的过滤方法，所述液体含有包含在研磨用组合物中而使用的添加剂(研磨用添加剂)。本申请基于2019年8月8日申请的日本专利申请2019-146778号主张优先权，并将该申请的全部内容作为参照并入本说明书中。

背景技术

对于金属、半金属、非金属、其氧化物等材料表面，进行使用研磨用组合物的精密研磨。通常以去除、减少可能成为表面平滑性降低的原因的粗大颗粒、异物为目的，利用各种过滤器对上述研磨用组合物、研磨用组合物中使用的成分进行过滤后，供于研磨。作为涉及这种技术的现有技术文献，可列举专利文献1及2。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利申请公开平11-302633号公报

专利文献2：日本专利申请公开2017-75316号公报

发明内容

发明要解决的问题

近年来，对于硅晶圆等半导体基板等基板要求更高品质的表面，要求以往不会视为问题的水平下的缺陷抑制。因此，对于研磨用组合物中包含的粗大颗粒、异物，要求更高精度地进行去除、减少。例如，专利文献2记载的技术中，对含磨粒液体实施过滤器过滤。然而，从如上所述的基板的高品质化的趋势出发，仅过滤磨粒或含磨粒液体已经变得越来越不充分。

研磨用组合物中不仅包含磨粒，从各种研磨性能提高的观点出发还包含各种添加剂(研磨用添加剂)。与磨粒、源自磨粒的粗大颗粒相比，源自这些各种添加剂的粗大颗粒、异物有粒径相对较小的倾向，因此难以与粒径较大的磨粒同时去除。因此，为了高精度地去除源自添加剂的粗大颗粒、异物，对添加剂或含添加剂液体进行过滤器过滤是有效的。

这样的含添加剂液体的过滤中，源自添加剂的粗大颗粒的粒径相对较小，因此与以往的研磨用组合物的过滤中使用的过滤器相比，有时需要更高精度的(即，出于去除更小粒径的颗粒的目的而构成的)过滤器。然而，通常基于高精度的过滤器的过滤有容易发生过滤器堵塞的倾向，在开始过滤后的相对较早期，过滤流量经常会降低。因此，在含添加剂液体的过滤中，难以兼顾实现使源自添加剂的粗大颗粒、异物的去除精度提高和过滤器的长寿命、低压力损耗、高流量。

本发明是鉴于该事实而做出的，目的在于提供一种含研磨用添加剂液体的过滤方法，其在含研磨用添加剂液体的过滤中，能够实现维持实用的过滤器的寿命(Life)并显示优异的缺陷减少能力的研磨用组合物。本发明的相关其他目的在于，提供利用上述过滤方法进行了过滤的含研磨用添加剂液体。另外，本发明的相关其他目的在于，提供研磨用组合物，所述研磨用组合物包含上述进行了过滤的含研磨用添加剂液体所含的研磨用添加剂。本发明的相关其他目的在于，提供研磨用组合物的制造方法。进而，本发明的相关其他目的在于，提供用于含研磨用添加剂液体的过滤的过滤器。

用于解决问题的方案