[发明专利]多个真空腔室排气系统和抽空多个真空腔室的方法

权利要求书

1.一种用于抽空位于洁净间中的多个腔室的真空排气系统，所述真空排气系统包括：

多个分支工艺气体通道，每个分支工艺气体通道被配置成连接到相应的腔室；

共享工艺通道，由所述分支通道的汇合形成，并被配置成提供共享的流体连通路径，以用于来自所述腔室中的每一个的工艺气体从所述洁净间流动到所述洁净间外部的工艺通道；和

多个分支抽气通道，每个分支抽气通道被配置成连接到相应的腔室；

共享的抽气通道，由所述分支抽气通道的汇合形成，并被配置成提供流体连通路径以用于流体在所述真空腔室中的至少一个的抽气期间从所述洁净间流动到所述洁净间外部的抽气通道。

2.根据权利要求1所述的真空排气系统，所述真空排气系统还包括用于抽空所述多个腔室的多个真空泵，所述多个真空泵被配置成连接到所述相应的多个真空腔室，所述多个分支工艺气体通道连接到所述多个真空泵的相应排气装置。

3.根据权利要求2所述的真空排气系统，其中，所述多个真空泵包括多个高真空真空泵，所述多个高真空真空泵被配置成在被抽空的气体的分子流区域中操作。

4.根据任一项前述权利要求所述的真空排气系统，所述真空排气系统还包括较低真空真空泵，所述较低真空真空泵被配置成在所述气体的粘性流动区域中操作，所述较低真空真空泵连接到位于所述洁净间外部的所述工艺通道；和

被配置成在所述气体的粘性流动区域中操作的抽气真空泵，所述抽气真空泵被连接到位于所述洁净间外部的所述抽气气体通道。

5.根据任一项前述权利要求所述的真空排气系统，其中，所述多个分支工艺气体通道被配置成使得每个分支通道的有效传导性大体相同，有效传导性在所述分支通道中的每一个之间变化小于20%，优选小于10%。

6.根据任一项前述权利要求所述的真空排气系统，所述真空排气系统还包括：

控制模块，所述控制模块包括压力控制电路，所述压力控制电路被配置成生成用于控制所述共享工艺通道中的压力的控制信号。

7.根据权利要求6所述的真空排气系统，所述真空排气系统还包括：

压力传感器，用于监测所述共享工艺通道内的压力；

所述压力控制电路被配置成接收来自所述压力传感器的信号，并响应于所述接收到的信号中的至少一个而生成所述控制信号中的至少一个，以便减少所述监测到的压力的波动。

8.根据权利要求6或7所述的真空排气系统，所述压力控制电路被配置成接收指示所述腔室中的至少一个内的活动的信号，所述压力控制电路被配置成响应于指示所述活动的所述接收到的信号中的至少一个而生成所述控制信号中的至少一个。

9.根据权利要求6至8中任一项所述的真空排气系统，所述压力控制电路被配置成接收指示所述腔室中的至少一个内的未来活动的信号，所述压力控制电路被配置成响应于指示所述未来活动的所述接收到的信号而生成所述控制信号中的至少一个。

10.根据权利要求6至9中任一项所述的真空排气系统，所述真空排气系统还包括以下至少一个：

用于抽空所述多个腔室的多个真空泵，所述多个真空泵被配置成连接到所述相应的多个真空腔室，所述多个分支工艺气体通道连接到所述多个真空泵的相应排气装置；和

工艺较低真空真空泵，被配置成在所述气体的粘性流动区域中操作，所述工艺较低真空真空泵连接到位于所述洁净间外部的所述工艺通道；

其中由所述压力控制电路生成的所述控制信号中的至少一个是用于控制所述真空泵中的至少一个的泵送速度的控制信号。

11.根据权利要求6至10中任一项所述的真空排气系统，所述真空排气系统还包括：

吹扫气体入口，用于向所述共享工艺通道提供受控的吹扫气体流；

由所述压力控制电路生成的所述控制信号中的至少一个是用于控制所述吹扫气体流的控制信号。