[发明专利]在CMOS电路中使用具有NV色心的金刚石纳米晶体的装置和方法

权利要求书

1.量子技术、微电光、微电子或光子系统的制造方法，所述方法包括以下步骤：

提供平面基板(Sub)，其中，所述平面基板(Sub)至少部分是半导体晶圆和/或其他半导体基板或硅晶圆或GaAs晶圆或由IV材料制成的晶圆或由III/V材料制成的晶圆或由II/VI材料制成的晶圆或由这些材料的混合物制成的晶圆或锗晶圆或单晶金刚石晶圆或多晶金刚石晶圆或它们的一部分，或者所述平面基板(Sub)至少部分是玻璃晶圆和/或陶瓷晶圆和/或金属片或塑料板或它们的一部分，并且其中，在所述方法结束时，所述平面基板(Sub)包括由至少两个电气构件组成的至少一个电子电路，所述至少一个电子电路机械地固定在所述平面基板(Sub)上或所述平面基板(Sub)中；

提供胶状漆(KL)；

使用所述胶状漆(KL)对所述平面基板(Sub)进行涂漆和/或印刷和/或涂布和/或局部润湿，以在所述平面基板(Sub)的表面(OF)上获得胶状膜(FM)，其中，所述涂漆和/或印刷和/或涂布和/或局部润湿可以以图案化的方式执行和/或其中所述方法可以包括对所述胶状膜(FM)进行图案化作为处理步骤；

对所述胶状膜(FM)进行固化和/或干燥，使得通过所述方法形成的固化的所述胶状膜(FM)的部分区域牢固地接合到所述平面基板(Sub)的所述表面(OF)，

其特征在于，

所述胶状漆(KL)包括载体材料(TM)中的纳米颗粒(NP)，

其中，至少一些或所有所述纳米颗粒(NP)具有一个或多个色心(FZ)。

2.量子技术和/或微电光和/或微电子和/或光子系统，

其包括平面基板(Sub)，所述平面基板(Sub)是MOS晶圆的一部分或CMOS晶圆的一部分或BICMOS晶圆的一部分或以双极技术处理的晶圆的一部分，

其中，所述平面基板(Sub)包括至少一个晶体管和/或具有至少一个晶体管或具有至少一个二极管的微电子电路，

其特征在于，

所述平面基板(Sub)的表面(OF)具有固化的胶状膜(FM)的部分区域，并且

固化的所述胶状膜(FM)的所述部分区域牢固地连接到所述平面基板(Sub)的所述表面(OF)，并且

固化的所述胶状膜(FM)的所述部分区域包括至少一个具有色心(FZ)的纳米颗粒(NP)。

3.通过根据权利要求1所述的方法制造的量子技术、微电光、微电子或光子系统。

4.根据权利要求2至3中的一项或多项所述的量子技术、微电光、微电子或光子系统，

其中，所述平面基板(Sub)包括至少一个微光学功能元件(LWL1、LWL2)。

5.根据权利要求2至4中的一项或多项所述的量子技术、微电光、微电子或光子系统，

其中，所述量子技术、微电光、微电子或光子系统具有适于在所述纳米颗粒(NP)的位置处引起磁激发的激发器件，并且

其中，所述激发器件是所述平面基板(Sub)的子器件。

6.根据权利要求2至5中的一项或多项所述的量子技术、微电光、微电子或光子系统，

其中，所述量子技术、微电光、微电子或光子系统是无微波的。

7.根据权利要求2至6中的一项或多项所述的量子技术、微电光、微电子或光子系统，

其中，所述系统包括至少一个光敏电子器件(nG、pG)，所述至少一个光敏电子器件是所述基板(Sub)的一部分或固定地连接到所述基板(Sub)的所述表面(OF)。