[发明专利]转印膜及带图案的基板的制造方法有效
| 申请号： | 202080024140.6 | 申请日： | 2020-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN113631380B | 公开（公告）日： | 2023-05-12 |
| 发明（设计）人： | 后藤英范;佐藤守正 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/00 | 分类号： | B32B27/00;G03F7/004;G03F7/033;G03F7/11;H05K3/06 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 转印膜 图案 制造 方法 | ||
1.一种转印膜，其依次具有：
临时支承体；
第一树脂层，其包含含有源自乙烯基苯衍生物的结构单元的碱溶性树脂A、聚合性化合物及聚合引发剂：及
第二树脂层，其包含酸值为130mgKOH/g以上的碱溶性树脂B；
所述第二树脂层的厚度为30nm以上且150nm以下，
相对于所述碱溶性树脂A的所有结构单元，所述碱溶性树脂A中的源自乙烯基苯衍生物的结构单元的含有率为30质量％以上。
2.根据权利要求1所述的转印膜，其中，
所述碱溶性树脂A的酸值为150mgKOH/g以上。
3.根据权利要求1所述的转印膜，其中，
所述碱溶性树脂B的酸值为150mgKOH/g以上。
4.根据权利要求1所述的转印膜，其中，
所述碱溶性树脂B的酸值为250mgKOH/g以下。
5.根据权利要求1所述的转印膜，其中，
相对于所述碱溶性树脂A的所有结构单元，所述碱溶性树脂A中的源自乙烯基苯衍生物的结构单元的含有率为70质量％以下。
6.根据权利要求1所述的转印膜，其中，
所述第二树脂层的厚度为40nm～120nm。
7.根据权利要求1所述的转印膜，其中，
所述第一树脂层的厚度为2μm～4μm。
8.一种带图案的基板的制造方法，其依次包括：
将基板与权利要求1至7中任一项所述的转印膜通过使所述基板与所述转印膜的所述第二树脂层接触来进行贴合的工序；
对所述转印膜的所述第一树脂层进行图案曝光的工序；及
对经过了所述图案曝光的所述第一树脂层进行显影来形成图案的工序。
9.根据权利要求8所述的带图案的基板的制造方法，其中，
在所述形成图案的工序之后包括对未配置有所述图案的区域中的基板进行蚀刻处理的工序。
10.根据权利要求8或9所述的带图案的基板的制造方法，其中，
所述基板的与所述第二树脂层接触的面的至少一部分为铜。
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