[发明专利]用于光学测量的测量系统在审

专利信息
申请号: 202080018998.1 申请日: 2020-01-31
公开(公告)号: CN113574345A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: L·托贝沙特;C·格鲁伯;T·维斯培特纳 申请(专利权)人: 微-埃普西龙光电股份有限公司
主分类号: G01B11/25 分类号: G01B11/25;G01B21/04
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 亓云;顾嘉运
地址: 德国兰*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 光学 测量 系统
【权利要求书】:

1.一种用于光学测量,特别是用于测量距离和/或位置和/或速度和/或颜色的测量系统,其具有至少一个外部固定点以及至少一个内部固定点,所述至少一个外部固定点定义外部坐标系或位于其中,所述至少一个内部固定点定义内部坐标系或位于其中,其中所述两个坐标系相对彼此具有明确可再现的位置,这意味着所述系统的调整或校准。

2.如权利要求1所述的测量系统,其特征在于,所述两个坐标系是相同的。

3.如权利要求1所述的测量系统,其特征在于,所述两个坐标系借助于平移和/或旋转和/或镜像相互转换。

4.如权利要求1-3中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述内部坐标系定义光学组件和/或成像组件和/或图像记录组件的位置,尤其是相对于位置和方向的光轴。

5.如权利要求1-4中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述外部坐标系是机械参考坐标系,其必须与相应的测量应用的坐标系对准。

6.如权利要求1-5中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述成像组件包括作为传送光学器件的至少一个光机光源。

7.如权利要求1-6中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述光学记录组件包括作为接收光学器件的至少一个光机传感器元件。

8.如权利要求1-7中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述光机组件或所述传送光学器件相对于所述内部坐标系的位置能被设为预定值。

9.如权利要求1-8中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述外部和所述内部固定点被分配给优选的单片结构元件。

10.一种包括根据权利要求1-9中任一项所述的传送光学器件和接收光学器件、优选地用于激光三角测量的测量系统,其特征在于,所述传送光学器件和所述接收光学器件被设置在根据所述固定点调整的所述单片结构元件上。

11.如权利要求10所述的测量系统,其特征在于,所述光机组件被设置在外壳中,其特征在于,所述单片结构组件具有用于所述光机组件的载体的功能和外壳部分的功能。

12.如权利要求9-11中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述单片结构元件用金属精确铣削或铸造,如有必要,能返工。

13.如权利要求9-11中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述单片结构元件使用注射成型工艺由塑料制成,如有必要,由纤维增强塑料制成。

14.如权利要求1-13中任一项所述的测量系统,其特征在于,所述外部坐标系,并且因此传感器定位或设置使用机械手段,例如使用定位套筒、定心销、桥台边缘等,以高精度对准。

15.如权利要求1-14中任一项所述的测量系统,其特征在于,提供了为所述外部坐标系的设置提供照明斑点(x、y、z)的位置的绝对参考的调整设备,用于将所述传送光学器件的坐标系参照到所述外部坐标系。

16.如权利要求1-14中任一项所述的测量系统,其特征在于,在测量照明斑点(x、y、z)在不同且绝对可定义的距离上的位置后,机械精确地再现传感器或外部坐标系的设置。

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