[发明专利]用于量化计量对工艺变动的敏感度的缩放指标

说明书

本公开揭示一种叠对计量系统，其包含用于从叠对计量工具接收使用测量参数的值的范围对样品上的叠对目标的多个集合的叠对测量的控制器，其中叠对目标的特定集合包含具有两个或更多个叠对目标设计中的一者的叠对目标。所述控制器可进一步确定至少一些所述叠对目标的缩放指标值，其中特定叠对目标的缩放指标是基于叠对目标的对应集合的所述叠对测量的标准偏差。所述控制器可进一步确定叠对目标的所述两个或更多个集合中的每一者的所述缩放指标值的可变性。所述控制器可进一步选择具有最小缩放指标可变性的所述两个或更多个叠对目标设计中的一者作为输出叠对目标设计。

相关申请案的交叉引用

本申请案根据35 U.S.C.§119(e)规定主张2019年1月28日申请的标题为“用于量化计量配置对工艺变动的敏感度的缩放指标对称(SCALING METRIC SMETRIC FORQUANTIFYING METROLOGY CONFIGURATION'S SENSITIVITY TO PROCESS VARIATION)”的命名塔尔·马西亚诺(Tal Marciano)、诺亚·艾蒙(Noa Armon)和达娜·克莱因(DanaKlein)及为发明者的第62/797,557号美国临时申请案的权利，所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本公开大体上涉及叠对计量，且更特定来说，涉及评估叠对计量对工艺变动的稳健性。

背景技术

叠对计量系统通常通过特性化具有定位在所关注样品层上的目标特征的叠对目标而测量样品的多个层的对准。此外，通常通过汇总跨样品的各种位置处的多个叠对目标的叠对测量而确定多个层的叠对对准。然而，叠对目标的叠对测量的准确性及/或可重复性可对制造叠对目标期间的工艺参数及/或用于检验经制造叠对目标的测量参数的变动敏感。例如，工艺参数变动(例如，与层沉积、图案曝光、蚀刻或类似者相关联)可导致经制造叠对目标从预期设计的偏差(例如，侧壁角的不对称性或类似者)，此可将误差引入叠对测量中。举另一实例，给定经制造叠对目标的叠对测量的准确性可基于与叠对计量工具相关联的测量参数(例如，波长、偏光性或类似者)的精确值变动。因此，可期望提供用于评估叠对目标设计的稳健性的系统或方法。

发明内容

根据本公开的一或多个说明性实施例揭示一种叠对计量系统。在一个说明性实施例中，所述系统包含与叠对计量工具通信地耦合的控制器。在另一说明性实施例中，所述控制器从所述叠对计量工具接收使用用于配置所述叠对计量工具的测量参数的多个值对样品上的叠对目标的两个或更多个集合的叠对测量，其中叠对目标的特定集合包含具有两个或更多个叠对目标设计中的一者的叠对目标。在另一说明性实施例中，所述控制器确定叠对目标的所述两个或更多个集合中的至少一些所述叠对目标的缩放指标值，其中特定叠对目标的缩放指标是基于叠对目标的对应集合的所述叠对测量的标准偏差。在另一说明性实施例中，所述控制器确定叠对目标的所述两个或更多个集合中的每一者的所述缩放指标值的可变性。在另一说明性实施例中，所述控制器选择具有最小缩放指标可变性的所述两个或更多个叠对目标设计中的一者作为输出叠对目标设计，其中将所述输出叠对目标设计提供到一或多个制造工具以基于所述输出叠对目标设计在测试样品上制造叠对目标以使用所述叠对计量工具进行测量。