[发明专利]蒸发室用的芯部片、蒸发室以及电子设备

权利要求书

1.一种蒸发室用的芯部片，其介于蒸发室的第1片与第2片之间，在该蒸发室中封入有工作流体，

其中，

所述蒸发室用的芯部片具备：

片主体，其具有第1主体面、和设置于与所述第1主体面相反的一侧的第2主体面；

贯通空间，其贯通所述片主体；

与所述贯通空间连通的第1槽集合体，其设置于所述第2主体面；以及

与所述贯通空间连通的第2槽集合体，其设置于所述第1主体面，

所述第1槽集合体包含沿第1方向延伸的多个第1主流槽，

所述第2槽集合体包含沿所述第1方向延伸的多个第2主流槽，

所述第2主流槽的流路截面积大于所述第1主流槽的流路截面积。

2.根据权利要求1所述的蒸发室用的芯部片，其中，

所述第2主流槽的宽度大于所述第1主流槽的宽度。

3.根据权利要求1或2所述的蒸发室用的芯部片，其中，

所述第2主流槽的深度大于所述第1主流槽的深度。

4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的蒸发室用的芯部片，其中，

所述片主体具有将所述贯通空间划分为多个通路的多个平台部，

多个所述平台部在与所述第1方向垂直的第2方向上互相分离，

所述第2主流槽的宽度比彼此相邻的一对所述平台部之间的间隙小。

5.根据权利要求1所述的蒸发室用的芯部片，其中，

所述片主体具有将所述贯通空间划分为多个通路的多个平台部，

所述第1槽集合体和所述第2槽集合体被设置于多个所述平台部中的至少一个，

设置于所述平台部的所述第2主流槽的个数比设置于该平台部的第1主流槽的个数少。

6.根据权利要求1～3中的任意一项所述的蒸发室用的芯部片，其中，

所述片主体具有沿所述第1方向延伸且将所述贯通空间划分为多个通路的多个平台部，

所述第2槽集合体在所述第1方向上配置于所述平台部的一侧。

7.根据权利要求1～3中的任意一项所述的蒸发室用的芯部片，其中，

所述片主体具有将所述贯通空间划分为多个通路的多个平台部，

在与所述第1方向垂直的第2方向上彼此相邻的所述第2槽集合体被设置于在所述第2方向上彼此相邻的一对所述平台部，

设置于一个所述平台部的所述第2槽集合体的所述第2主流槽在所述第1方向上的长度比设置于另一个所述平台部的所述第2槽集合体的所述第2主流槽在所述第1方向上的长度更长。

8.根据权利要求1～3中的任意一项所述的蒸发室用的芯部片，其中，

所述片主体具有将所述贯通空间划分为多个通路的多个平台部，

多个所述第2槽集合体被设置于多个所述平台部中的至少一个。

9.根据权利要求1～8中的任意一项所述的蒸发室用的芯部片，其中，

所述蒸发室用的芯部片具备连通部，所述连通部设置于所述片主体，且与所述第1槽集合体和所述第2槽集合体连通。

10.根据权利要求9所述的蒸发室用的芯部片，其中，

所述连通部包含连通凹部，所述连通凹部设置于所述贯通空间的壁面，且从所述第1槽集合体延伸至所述第2槽集合体。

11.根据权利要求10所述的蒸发室用的芯部片，其中，

所述第1槽集合体包含与所述第1主流槽连通的第1连接槽，所述第1连接槽沿着与所述第1方向不同的方向延伸，

所述第2槽集合体包含与所述第2主流槽连通的第2连接槽，所述第2连接槽沿着与所述第1方向不同的方向延伸，

所述连通凹部延伸至所述第1连接槽和所述第2连接槽中的至少一方。