[实用新型]一种晶圆生产用清洁装置

说明书

本实用新型公开了一种晶圆生产用清洁装置，涉及电子元件加工技术领域。本实用新型包括容纳箱、输送带、顶盖和清洁机构，容纳箱内部的四角对称固定有支柱，支柱顶部的内侧转动连接有滚轴，两根滚轴之间包覆连接有输送带，通过滚轴的旋转使输送带运转输送，输送带上设置有清洁机构，清洁机构用于对晶圆的固定，以保证不会互相碰撞，容纳箱的上端固定有顶盖，顶盖覆盖于输送带上方，顶盖用于固定管道类的输水结构，同时防止水流四射。本实用新型通过清洁机构、顶盖、容纳箱，解决了晶圆清洁时缺少相应的辅助固定结构和晶圆清洁不彻底，水资源耗费大的问题。

技术领域

本实用新型属于电子元件加工技术领域，特别是涉及一种晶圆生产用清洁装置。

背景技术

晶圆的原始材料是硅，而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼，盐酸氯化，并经蒸馏后，制成了高纯度的多晶硅，其纯度高达99.999999999%。晶圆制造厂再把此多晶硅融解，再于融液里种入籽晶，然后将其慢慢拉出，以形成圆柱状的单晶硅晶棒，由于硅晶棒是由一颗晶面取向确定的籽晶在熔融态的硅原料中逐渐生成，此过程称为“长晶”。硅晶棒再经过切段，滚磨，切片，倒角，抛光，激光刻，包装后，即成为积体电路工厂的基本原料——硅晶圆片，这就是“晶圆”。在晶圆加工过程中，会经历很多步骤工序，其中清洁更是必不可少的一部分。

1、在进行晶圆的清洗时，传统的清洗方式容易是晶圆互相碰撞，产生磨损，缺少一个能够将晶圆固定的结构进行清洗；

2、由于晶圆的冲洗方式过于的简单，无法保证冲洗干净，且耗费的水资源过大。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种晶圆生产用清洁装置，通过清洁机构、顶盖、容纳箱，解决了晶圆清洁时缺少相应的辅助固定结构和晶圆清洁不彻底，水资源耗费大的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：

本实用新型为一种晶圆生产用清洁装置，包括容纳箱、输送带、顶盖和清洁机构，所述容纳箱内部的四角对称固定有支柱，所述支柱顶部的内侧转动连接有滚轴，两根所述滚轴之间包覆连接有输送带，通过滚轴的旋转使输送带运转输送，所述输送带上设置有清洁机构，清洁机构用于对晶圆的固定，以保证不会互相碰撞，所述容纳箱的上端固定有顶盖，所述顶盖覆盖于输送带上方，顶盖用于固定管道类的输水结构，同时防止水流四射。

进一步地，所述清洁机构包括盖板和基板，所述基板内固定有底板，所述底板上的基板内固定有网格栅，所述底板的内侧设有滤孔，所述盖板的内侧固定有滤网，在保证清洗的同时实现固定。

进一步地，所述基板上端的四角固定有限位杆，所述盖板的四角贯穿开设有通孔，所述盖板通过通孔套设于限位杆外盖设在基板上，所述网格栅周侧的底板上放置有晶圆主体，双面夹持实现对晶圆主体的固定使用。

进一步地，所述顶盖的顶部贯穿固定有T型管，所述T型管的底部等间距的固定有喷头，所述T型管的顶端固定有横管，且T型管于横管底部对称分布，所述横管的上端固定有进水管，用于进水和分流使用。

进一步地，所述容纳箱的外侧固定有电机，所述电机的输出端与其中一根滚轴固定连接，所述容纳箱的一端固定有排水管，所述排水管的表面固定有阀门，排除清洗后的废水。

本实用新型具有以下有益效果：

1、本实用新型通过设置清洁机构，解决了晶圆清洁时缺少相应的辅助固定结构的问题，在进行晶圆的清洗前，将其放置在清洁机构内，使其位置限定，通过盖板和基板的配合实现位置限定，随后，将二者相互固定组合，通过清洁水进行冲洗，晶圆之间不会相互触碰，保证结构的完整性。

2、本实用新型通过设置顶盖、容纳箱，解决了晶圆清洁不彻底，水资源耗费大的问题，本实用新型能够完成晶圆的多重冲洗清洁，保证晶圆的清洁足够彻底，同时能够翻转式进行清洁处理，而清洁产生的废水也会进行留存，稍加处理后即可再次使用，能够节约水资源的使用。