[实用新型]改进型刷片机装置

说明书

本实用新型涉及一种改进型刷片机装置，属于晶片刷洗技术领域。本实用新型包括晶片、吸附装置以及刷片装置，吸附装置和刷片装置为分体结构，吸附装置位于刷片装置一侧，吸附装置包括竖向设置的悬臂，悬臂内缘设置有伸缩气缸，伸缩气缸的端部铰接有旋转臂，旋转臂在伸缩气缸带动下沿铰接处旋转90°从而靠近刷片装置；旋转臂末端安装有吸盘组件，吸盘组件包括吸附盘以及沿吸附盘周缘设置的抹面机构，晶片与抹面机构均与晶片表面相接触。本实用新型通过带有旋转臂的吸附装置，在吸附晶片的同时实现晶片位置的转移，提高效率且节省机械成本；在吸附盘周围增设抹面机构，通过抹面机构清理浮尘后再吸附，晶片掉落概率大大降低，提高良率。

技术领域

本实用新型涉及一种改进型刷片机装置，属于晶片刷洗技术领域。

背景技术

目前的现有技术主要是由吸附装置以及刷片装置组成。但是，现有技术具有以下缺陷：(1)晶片表面有浮尘，吸附装置吸附力度不够，容易造成晶片掉落；(2)吸附装置只能单方向移动，往往需要其他部件将晶片调转方向后才能刷片，浪费成本。

实用新型内容

针对现有技术存在的上述缺陷，本实用新型提出了一种改进型刷片机装置。

本实用新型所述的改进型刷片机装置，包括晶片、吸附装置以及刷片装置，吸附装置和刷片装置为分体结构，吸附装置位于刷片装置一侧，吸附装置包括竖向设置的悬臂，悬臂内缘设置有伸缩气缸，伸缩气缸的端部铰接有旋转臂，旋转臂在伸缩气缸带动下沿铰接处旋转90°从而靠近刷片装置；旋转臂末端安装有吸盘组件，吸盘组件包括吸附盘以及沿吸附盘周缘设置的抹面机构，晶片与抹面机构均与晶片表面相接触。

优选地，所述抹面机构与吸附盘之间设置有压缩弹簧，抹面机构清除晶片表面浮尘后紧密贴合于晶片表面，压缩弹簧处于压缩状态。

优选地，所述吸附装置的刷头呈竖向放置，刷头通过水平方向移动与晶片贴合。

优选地，所述刷片装置下方设置有吸尘管道。

本实用新型的有益效果是：本实用新型所述的改进型刷片机装置，通过带有旋转臂的吸附装置，在吸附晶片的同时实现晶片位置的转移，提高效率且节省机械成本；在吸附盘周围增设抹面机构，通过抹面机构清理浮尘后再吸附，晶片掉落概率大大降低，提高良率。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是吸附装置的结构示意图。

图3是图2中吸盘组件局部放大图。

图中：1、晶片；2、吸附装置；21、悬臂；22、伸缩气缸；23、旋转臂；24、吸盘组件；241、抹面机构；242、吸附盘；3、刷片装置。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1：

如图1至图3所示，本实用新型所述的改进型刷片机装置，包括晶片1、吸附装置2以及刷片装置3，吸附装置2和刷片装置3为分体结构，吸附装置2位于刷片装置3一侧，吸附装置2包括竖向设置的悬臂21，悬臂21内缘设置有伸缩气缸22，伸缩气缸22的端部铰接有旋转臂23，旋转臂23在伸缩气缸22带动下沿铰接处旋转90°从而靠近刷片装置3；旋转臂23末端安装有吸盘组件24，吸盘组件24包括吸附盘242以及沿吸附盘242周缘设置的抹面机构241，晶片1与抹面机构241均与晶片1表面相接触。