[实用新型]一种MMP颗粒物去除装置

权利要求书

1.一种MMP颗粒物去除装置，包括壳体(1)，其特征在于，所述壳体(1)内设有净化结构；

其中，净化结构包含有：过滤棉(2)、过滤网(3)、活性炭盒(4)、活性炭(5)、负离子静电层(6)、除潮层(7)以及更换组件；

所述过滤棉(2)安装在所述壳体(1)内前后壁面上，所述过滤网(3)安装在所述壳体(1)内前后壁面上，所述过滤网(3)位于所述过滤棉(2)右侧，所述活性炭盒(4)位于所述壳体(1)内部与所述壳体(1)之间设有更换组件，所述活性炭盒(4)位于所述过滤网(3)右侧，所述活性炭(5)安装在所述活性炭盒(4)内部，所述负离子静电层(6)安装在所述壳体(1)内前后壁面上，所述负离子静电层(6)位于所述活性炭盒(4)右侧，所述除潮层(7)安装在所述壳体(1)内前后壁面上，所述除潮层(7)位于所述负离子静电层(6)右侧。

2.根据权利要求1所述的一种MMP颗粒物去除装置，其特征在于，所述更换组件包含有：一对结构相同的滑轨(8)、一对结构相同的滑块(9)以及拉手(10)；

一对所述滑轨(8)安装在所述壳体(1)内前后壁面上，一对所述滑块(9)位于所述过滤网(3)和所述负离子静电层(6)之间，一对所述滑块(9)活动安装在一对所述滑轨(8)上，所述活性炭盒(4)安装在所述一对滑块(9)之间，所述拉手(10)安装在所述活性炭盒(4)上壁面上。

3.根据权利要求1所述的一种MMP颗粒物去除装置，其特征在于，所述壳体(1)上壁面设有用于更换的盖体(11)。

4.根据权利要求1所述的一种MMP颗粒物去除装置，其特征在于，所述壳体(1)外侧设有用于防撞的金属网(12)。

5.根据权利要求2所述的一种MMP颗粒物去除装置，其特征在于，一对所述滑轨(8)上设有用于限位的限位块(13)。

6.根据权利要求2所述的一种MMP颗粒物去除装置，其特征在于，所述拉手(10)上设有用于防滑的防滑纹(14)。