[实用新型]一种用于磨片机磨液的节流装置有效
申请号: | 202021914738.6 | 申请日: | 2020-09-04 |
公开(公告)号: | CN213673621U | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 韩云霄;杨波;李战国 | 申请(专利权)人: | 麦斯克电子材料股份有限公司 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02;B24B7/22 |
代理公司: | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人: | 卫煜睿 |
地址: | 471000 河南省洛*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 磨片机磨液 节流 装置 | ||
一种用于磨片机磨液的节流装置,包括蠕动泵、出液管、缓存槽、进液管、高限位传感器、低限位传感器、电子阀和手动阀,所述出液管设置在所述蠕动泵内,出液管的一端连接磨片机,另一端与所述缓存槽连通,缓存槽内腔的底部平铺有防堵塞斜面,缓存槽的外壁上安装所述高限位传感器和所述低限位传感器,高限位传感器设置在低限位传感器上方,所述电子阀和所述手动阀设置在进液管上,高限位传感器和低限位传感器为电子阀提供工作信号。本实用新型通过磨液温流装置可有效节省生产中磨液消耗及稳定磨片工艺、提升研磨硅片质量。
技术领域
本实用新型属于硅片研磨领域,具体涉及一种用于磨片机磨液的节流装置。
背景技术
随着电子工业的迅速发展,磨片在硅片的制备过程中占有重要地位,它是切片后硅片表面的第一次机械加工,为硅片的下一步加工打下了基础。衬底硅片的研磨是保证硅片的平整度的基础,在硅片研磨中研磨液研磨液的合理供应是保证磨片质量和效率的基础。所以国内外对研磨液性能及供应控制的研究越来越受到广泛关注。目前传统的研磨液供应方式为一套磨液供应系统供应多台磨片机,供应系统中总供应量不变,但是工作的磨片机的数量不确定,故每台磨片机分流的磨液供应量液不确定,不稳定的磨液供应量对硅片的研磨工艺影响非常大,由于硅片为脆性材料,脆性材料的表面张力大和前面工序应力的积累,再加上剧烈的研磨机械作用,使硅片表面极易产生裂纹,严重的还会导致崩边、碎片,对后续工艺造成恶劣的影响,故合理的控制每台设备的磨液供应,不仅可以提升硅片质量,而且均匀的供应磨液还可以减少磨液的总使用量,减少磨液消耗,降低生产成本。
实用新型内容
针对上述现有技术的不足之处,本实用新型提供了一种复合筋材的制备及张拉方法,以解决玄武岩纤维筋难以直接使用现有金属锚杆张拉设备进行张拉并可靠锚固的问题。
本实用新型通过以下技术方案来实现:一种用于磨片机磨液的节流装置,包括蠕动泵、出液管、缓存槽、进液管、高限位传感器、低限位传感器、电子阀和手动阀,所述出液管设置在所述蠕动泵内,出液管的一端连接磨片机,另一端与所述缓存槽连通,缓存槽内腔的底部平铺有防堵塞斜面,缓存槽的外壁上安装所述高限位传感器和所述低限位传感器,高限位传感器设置在低限位传感器上方,所述电子阀和所述手动阀设置在进液管上,高限位传感器和低限位传感器为电子阀提供工作信号。
进一步优化,所述缓存槽为长方形。
进一步优化,所述高限位传感器距离缓存槽顶部5cm。
进一步优化,所述低限位传感器距离缓存槽底部5cm。
进一步优化,所述电子阀设置在距离缓存槽近的一侧。
进一步优化,所述防堵塞斜面的最高端距离缓存槽底部5cm。
本实用新型的有益效果在于:
1、通过磨液稳留装置,磨液从磨液供应系统中通过进液管注入磨液稳流装置的缓存槽,缓存槽底部平面设置左低右高的平面,使进液口和出液口存在一定的高度差,有利于磨液在缓存槽内部能有效的循环,避免磨液因不循环而产生的沉淀堵塞管道;
2、缓存槽设置有高、低限位传感器,避免进液量大或小引起的磨液停供或溢出,当高低限位传感器工作时,会传输信号给电子阀,电子阀通过调节开和关来保证缓存槽磨液液位处于正常状态,当缓存槽的液位处于正常状态时,磨液可通过出液管道进入蠕动泵,调节蠕动泵的转速,可控制除夜管道的流速,当蠕动泵的转速一定时,磨液到磨片机的注入量也就恒定不变;
综上所述,本实用新型通过磨液温流装置可有效节省生产中磨液消耗及稳定磨片工艺、提升研磨硅片质量。
附图说明
图1为磨片机研磨液稳流装置结构示意图;
附图标记:1、蠕动泵,2、出液管,3、缓存槽;4、进液管,5、高限位传感器,6、低限位传感器,7、电子阀,8、手动阀,9、防堵塞斜面,10、磨片机,11、磨液供应系统。
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