[实用新型]一种用于晶圆制造的圆片清洗设备

权利要求书

1.一种用于晶圆制造的圆片清洗设备，包括底板（1），其特征在于：

所述底板（1）上端左右两侧分别固定有支撑板（3），左右两块所述支撑板（3）之间设置有一对呈左右对称分布的半圆环（22），两块所述半圆环（22）之间相接触，所述半圆环（22）内壁开有凹痕（24），所述半圆环（22）与支撑板（3）之间设置有支撑块（18），所述支撑块（18）靠近半圆环（22）的一端安装有电动伸缩杆（19），所述电动伸缩杆（19）尾端与半圆环（22）固定连接，所述半圆环（22）靠近支撑块（18）的一端且位于电动伸缩杆（19）前后两侧均固定有第二滑动杆（20），所述第二滑动杆（20）靠近支撑块（18）的一端贯穿出支撑块（18）与支撑块（18）滑动连接，左右两块所述支撑块（18）之间固定有一对呈前后分布的连接杆（23），所述连接杆（23）位于半圆环（22）前后两方；

所述支撑板（3）上端均固定有一对呈前后分布的支撑杆（4），所述支撑杆（4）上端之间固定有顶板（5），所述顶板（5）下端中部安装有电动缸（6），所述电动缸（6）的动力输出端滑动连接有伸缩棒（26），所述伸缩棒（26）下端固定有升降板（9），所述升降板（9）下端安装有第一防水电机（12），所述第一防水电机（12）的动力输出端转动连接有第一转轴（13），所述第一转轴（13）下端固定有圆片（14），所述圆片（14）下端通过螺丝连接有圆盘刷（15），所述圆片（14）内部均匀开有若干个呈环状分布的通孔（25）。

2.根据权利要求1所述的一种用于晶圆制造的圆片清洗设备，其特征在于：所述支撑块（18）靠近支撑板（3）的一端且位于前后两根所述第二滑动杆（20）之间固定有第二转轴（21），所述第二转轴（21）由镀镍的铁棒制成，右端的所述支撑板（3）左端安装有第二防水电机（16），左端的所述支撑板（3）右端安装有顶锥（17），右端的所述第二转轴（21）右端与第二防水电机（16）的动力输出端连接，左端的所述第二转轴（21）左端与顶锥（17）右端转动连接。

3.根据权利要求1所述的一种用于晶圆制造的圆片清洗设备，其特征在于：所述底板（1）上端且位于半圆环（22）下方安装有排水池（2），所述排水池（2）位于支撑板（3）内侧，所述底板（1）上端且位于排水池（2）前后两方均安装有一对呈左右分布的防水电缸（27），所述防水电缸（27）的动力输出端滑动连接有限位棒（28），所述限位棒（28）上端与支撑块（18）下端相接触。

4.根据权利要求1所述的一种用于晶圆制造的圆片清洗设备，其特征在于：所述升降板（9）下端且位于第一防水电机（12）左右两方均安装有喷头（10），所述喷头（10）的水源输入端相接有软管（11），所述喷头（10）位于圆片（14）上方。

5.根据权利要求1所述的一种用于晶圆制造的圆片清洗设备，其特征在于：所述通孔（25）位于伸缩棒（26）外侧和圆盘刷（15）内侧之间。

6.根据权利要求1所述的一种用于晶圆制造的圆片清洗设备，其特征在于：所述升降板（9）上端且位于伸缩棒（26）左右两方均固定有第一滑动杆（8），所述顶板（5）下端且位于电动缸（6）左右两侧均固定有支撑片（7），所述支撑片（7）呈L字形，所述第一滑动杆（8）上端延伸出支撑片（7）上表面与支撑片（7）滑动连接。