[实用新型]正弦光栅-金属纳米颗粒溶胶双增强基底有效

专利信息
申请号: 202021669553.3 申请日: 2020-08-12
公开(公告)号: CN213041742U 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 陈志斌;肖程;秦梦泽;张冬晓 申请(专利权)人: 中国人民解放军32181部队
主分类号: G01N21/65 分类号: G01N21/65
代理公司: 石家庄国域专利商标事务所有限公司 13112 代理人: 胡澎
地址: 050000 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 正弦 光栅 金属 纳米 颗粒 溶胶 增强 基底
【权利要求书】:

1.一种正弦光栅-金属纳米颗粒溶胶双增强基底,其特征是,包括一维银正弦光栅和附着在一维银正弦光栅上的金纳米颗粒溶胶层;

所述一维银正弦光栅是采用二氧化硅玻璃作为衬底材料,在其上均匀旋涂有适合亚波长光刻的光刻胶层,利用双光束激光干涉光刻技术在所述光刻胶层上形成均匀的正弦光栅结构,并使用热蒸镀法在正弦光栅结构的表面蒸镀一层均匀的银薄膜;

所述金纳米颗粒溶胶层是在由四氯金酸溶液和柠檬酸钠溶液混合加热制成的溶胶中含有粒径在80~120nm、粒子浓度为7.5×10-9mol/L的金纳米颗粒,所述金纳米颗粒均布在所述溶胶中。

2.根据权利要求1所述的正弦光栅-金属纳米颗粒溶胶双增强基底,其特征是,所述二氧化硅玻璃衬底的厚度为1mm,正弦光栅的周期为770nm,银薄膜的厚度为100nm。

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