[实用新型]一种磁控溅射设备的溅射靶

说明书

本实用新型公开了一种磁控溅射设备的溅射靶，封板前面固定有靶材背板，封板与靶材背板之间形成一个冷却腔，靶材背板包括靶材腔体，靶材背板中间向靶材腔体内部延伸设有多条凸筋，靶材腔体内部设有靶材，靶材表面靠近靶材背板的一侧设有多条位于相邻两条凸筋之间的竖筋，靶材表面远离靶材背板的一侧还固定有铜板，封板设有两个贯穿其前后表面的第一通孔，封板下部固定有与第一通孔一一对应的两个管材，管材外部套设有一端封闭的圆柱形转接管，转接管环形侧面上设有连接外部冷却装置的水管接头。本实用新型设计多重密封结构，防止冷却水渗漏，冷却部位形状为锯齿状增加了表面积，提高了散热效率。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射设备技术领域，尤其是涉及一种磁控溅射设备的溅射靶。

背景技术

磁控溅射是物理气相沉积的一种，广泛应用与集成电路、液晶显示器、薄膜太阳能等领域，磁控溅射设备通过电子与真空腔中氩的原子发生碰撞，并持续轰击靶材表面，将靶材上的材料轰击出来，最终沉积在基片上形成薄膜；

靶材在工作时，温度较高，现有技术通常都是通过在靶材背面通冷却水对靶材进行冷却，存在以下缺陷：1.冷却通道较窄，冷却水流量小，压力大，冷却效果差；2.密封效果不好，长时间使用容易造成漏水，因此急需对此进行改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种磁控溅射设备的溅射靶，溅射靶设计多重密封结构，防止冷却水渗漏，冷却部位形状为锯齿状增加了表面积，提高了散热效率。

为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种磁控溅射设备的溅射靶，包括封板，所述封板前面固定有靶材背板，所述封板与靶材背板之间形成一个冷却腔，所述靶材背板包括靶材腔体，所述靶材背板中间向靶材腔体内部延伸设有多条凸筋，所述靶材腔体内部设有靶材，所述靶材表面靠近靶材背板的一侧设有多条位于相邻两条凸筋之间的竖筋，所述靶材表面远离靶材背板的一侧还固定有铜板，所述封板设有两个贯穿其前后表面的第一通孔，所述封板下部固定有与第一通孔一一对应的两个管材，所述管材内部连通第一通孔，所述管材外部套设有一端封闭的圆柱形转接管，所述转接管内部连通管材内部，所述转接管环形侧面上设有连接外部冷却装置的水管接头，所述水管接头内部连通转接管内部。

还包括第二密封圈，所述封板和靶材背板的截面为方形，所述封板前面设有方形凹槽，所述凹槽包括一圈第一密封槽和第二密封槽，所述靶材背板靠近封板的一侧设有第四密封槽和第二密封筋，所述第二密封圈位于第一密封槽和第四密封槽之间，所述第二密封筋插入第二密封槽中。

所述靶材背板靠近封板的一侧设有固定部，所述固定部插入且固定在凹槽内。

还包括第三密封圈，所述封板背面设有与第一通孔同轴心的第三密封槽，所述第一通孔位于封板背面一侧的内壁向外延伸设有第一密封筋，所述管材靠近封板的一侧设有第五密封槽和第六密封槽，所述第三密封圈位于第三密封槽和第五密封槽之间，所述第一密封筋插入第六密封槽中。

每个所述管材还包括第一圆柱部，每个所述第一圆柱部靠近转接管的一侧向外延伸设有第二圆柱部，所述第一圆柱部横截面直径大于第二圆柱部横截面直径，所述第二圆柱部上共同套设有转接板，所述转接板抵接在第一圆柱部上，所述转接管套设在第二圆柱部上且抵接转接板。

所述转接板上设有与两个第二圆柱部一一对应的多个第二通孔，所述第二通孔上螺纹连接有螺钉，所述螺钉尾部抵接第二圆柱部环形外侧。

每个所述第二圆柱部外侧环形面上设有第七密封槽，所述第七密封槽上套设有第四密封圈，所述第四密封圈外侧抵接转接管环形内侧。

所述转接管环形外侧还套设有紧固圈。

本实用新型的有益效果是：封板与靶材背板之间形成一个可同冷却水的冷却腔，通过凸筋和竖筋的配合增加了与靶材背板的接触面积，提高了散热效率；