[实用新型]一种磁控溅射设备的溅射靶

权利要求书

1.一种磁控溅射设备的溅射靶，包括封板(201)，其特征在于：所述封板(201)前面固定有靶材背板(202)，所述封板(201)与靶材背板(202)之间形成一个冷却腔(2024)，所述靶材背板(202)包括靶材腔体(2022)，所述靶材背板(202)中间向靶材腔体(2022)内部延伸设有多条凸筋(2023)，所述靶材腔体(2022)内部设有靶材(203)，所述靶材(203)表面靠近靶材背板(202)的一侧设有多条位于相邻两条凸筋(2023)之间的竖筋(2031)，所述靶材(203)表面远离靶材背板(202)的一侧还固定有铜板(2032)，所述封板(201)设有两个贯穿其前后表面的第一通孔(2012)，所述封板(201)下部固定有与第一通孔(2012)一一对应的两个管材(204)，所述管材(204)内部连通第一通孔(2012)，所述管材(204)外部套设有一端封闭的圆柱形转接管(207)，所述转接管(207)内部连通管材(204)内部，所述转接管(207)环形侧面上设有连接外部冷却装置的水管接头(2071)，所述水管接头(2071)内部连通转接管(207)内部。

2.如权利要求1所述一种磁控溅射设备的溅射靶，其特征在于：还包括第二密封圈(208)，所述封板(201)和靶材背板(202)的截面为方形，所述封板前面设有方形凹槽(2011)，所述凹槽(2011)包括一圈第一密封槽(2013)和第二密封槽(2014)，所述靶材背板(202)靠近封板(201)的一侧设有第四密封槽(2025)和第二密封筋(2026)，所述第二密封圈(208)位于第一密封槽(2013)和第四密封槽(2025)之间，所述第二密封筋(2026)插入第二密封槽(2014)中。

3.如权利要求2所述一种磁控溅射设备的溅射靶，其特征在于：所述靶材背板(202)靠近封板(201)的一侧设有固定部(2021)，所述固定部(2021)插入且固定在凹槽(2011)内。

4.如权利要求1所述一种磁控溅射设备的溅射靶，其特征在于：还包括第三密封圈(209)，所述封板(201)背面设有与第一通孔(2012)同轴心的第三密封槽(2015)，所述第一通孔(2012)位于封板(201)背面一侧的内壁向外延伸设有第一密封筋(2016)，所述管材(204)靠近封板(201)的一侧设有第五密封槽(2043)和第六密封槽(2044)，所述第三密封圈(209)位于第三密封槽(2015)和第五密封槽(2043)之间，所述第一密封筋(2016)插入第六密封槽(2044)中。

5.如权利要求1所述一种磁控溅射设备的溅射靶，其特征在于：每个所述管材(204)还包括第一圆柱部(2041)，每个所述第一圆柱部(2041)靠近转接管(207)的一侧向外延伸设有第二圆柱部(2042)，所述第一圆柱部(2041)横截面直径大于第二圆柱部(2042)横截面直径，所述第二圆柱部(2042)上共同套设有转接板(206)，所述转接板(206)抵接在第一圆柱部(2041)上，所述转接管(207)套设在第二圆柱部(2042)上且抵接转接板(206)。

6.如权利要求5所述一种磁控溅射设备的溅射靶，其特征在于：所述转接板(206)上设有与两个第二圆柱部(2042)一一对应的多个第二通孔(2061)，所述第二通孔(2061)上螺纹连接有螺钉(2062)，所述螺钉(2062)尾部抵接第二圆柱部(2042)环形外侧。

7.如权利要求5所述一种磁控溅射设备的溅射靶，其特征在于：每个所述第二圆柱部(2042)外侧环形面上设有第七密封槽(2045)，所述第七密封槽(2045)上套设有第四密封圈(210)，所述第四密封圈(210)外侧抵接转接管(207)环形内侧。

8.如权利要求5所述一种磁控溅射设备的溅射靶，其特征在于：所述转接管(207)环形外侧还套设有紧固圈(205)。