[实用新型]一种电子束蒸发台用行星盘结构

说明书

本实用新型属涉及半导体设备技术领域，尤其涉及一种电子束蒸发台用行星盘结构，现提出如下方案，其包括；它包含支架、支撑臂、一号转轴、行星盘、转轮、二号转轴；所述的支架的上侧设有数个一号螺孔，支架的外壁上固定有数个支撑臂，支撑臂的下侧活动穿设有一号转轴；所述的一号转轴的前端穿过行星盘后，与限位螺母过盈设置，行星盘设于支撑臂的内侧，限位螺母设于行星盘的内侧；所述的行星盘上设有数个硅片通孔；所述的一号转轴的后端穿过转轮后，与限位轮过盈设置，转轮设于支撑臂的外侧；采用轨道滑轮悬挂结构，减小行星盘的震动，防滑防震，避免碎片，行星盘公转加自转使得硅片受热均匀，提高金属膜的均匀性，而且养护操作方便。

技术领域

本实用新型涉及半导体设备技术领域，具体涉及一种电子束蒸发台用行星盘结构。

背景技术

半导体制造设备电子束蒸发台是将待蒸发的材料放置进坩埚，在真空系统中用电子束加热并使其蒸发，撞击到硅片表面凝结形成金属薄膜。在这个工程中，硅片是被固定在一个行星盘结构的装置上的，该装置的旋转速度的可靠稳定性和旋转的方式都直接影响到金属薄膜的厚度，均匀性等工艺参数。

现有的半导体设备的行星盘在生产过程中会出现震动，还会出现碎片的情况，而且现有的行星盘结构会导致硅片受热不均匀，且后期养护繁琐，亟待改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种结构简单，设计合理、使用方便的电子束蒸发台用行星盘结构，采用轨道滑轮悬挂结构，减小行星盘的震动，防滑防震，避免碎片，行星盘公转加自转使得硅片受热均匀，提高金属膜的均匀性，而且养护操作方便。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：它包含支架、支撑臂、一号转轴、行星盘、转轮、二号转轴；所述的支架的上侧设有数个一号螺孔，支架的外壁上固定有数个支撑臂，支撑臂的下侧活动穿设有一号转轴；所述的一号转轴的前端穿过行星盘后，与限位螺母过盈设置，行星盘设于支撑臂的内侧，限位螺母设于行星盘的内侧；所述的行星盘上设有数个硅片通孔；所述的一号转轴的后端穿过转轮后，与限位轮过盈设置，转轮设于支撑臂的外侧，限位轮设于转轮的外侧；所述的支架的下侧设有二号转轴，二号转轴固定于外部的电子束蒸发台内，二号转轴的上侧设有滑槽，转轮的下侧滑动卡设于滑槽内。

进一步地，所述的二号转轴上设有数个二号螺孔，二号螺孔设于滑槽的外侧。

进一步地，所述的硅片通孔内设有承片卡圈。

进一步地，所述的支架上设有数个三号螺孔，三号螺孔设于一号螺孔的内侧。

进一步地，所述的行星盘为伞状结构。

进一步地，所述的硅片通孔的数量为5个。

采用上述结构后，本实用新型有益效果为：本实用新型所述的一种电子束蒸发台用行星盘结构，采用轨道滑轮悬挂结构，减小行星盘的震动，防滑防震，避免碎片，行星盘公转加自转使得硅片受热均匀，提高金属膜的均匀性，而且养护操作方便，本实用新型具有结构简单，设置合理，制作成本低等优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型中支撑臂、一号转轴、行星盘之间的连接结构示意图。

图3是本实用新型中硅片通孔的示意图。

附图标记说明：