[实用新型]一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统

说明书

本实用新型公开了一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统，其包括透光面罩，透光面罩的上端设置有第一屏蔽层，透光面罩的下端设置有第二屏蔽层；第一屏蔽层的下表面设置有双曲面反射镜；第二屏蔽层上设置有用于放置成像器的存放腔，存放腔的上端设置有可调镜头；存放腔的下端设置有斜向的线缆通道。本实用新型通过第一屏蔽层屏蔽来自正上方的辐射，通过第二屏蔽层屏蔽来自前后左右和下方的辐射，可以有效将环境辐射与成像器进行隔离，避免成像器受辐射影响。同时本实用新型通过双曲面反射镜将四周环境反射至成像器中，使得本系统可以获取360°的图像，保证了开阔的全局视野，提高了成像效率。

技术领域

本实用新型涉及成像系统领域，具体涉及一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统。

背景技术

在核与强辐射环境下的工程作业任务中，一般通过遥控操作机器人携带相机获取现场视频或图像信息，并在视频监控的情况下完成巡检、应急作业，因此清晰图像质量、开阔的全局视野是保障作业效率与作业安全的关键。然而， CCD相机、CMOS传感器在强辐射环境下受到高能粒子影响后，产生的辐照损伤效应会导致获取的视频图像信息含有严重的污染噪声，极大地影响了图像采集设备在强辐射环境下的生存能力与图像质量。

实用新型内容

针对现有技术中的上述不足，本实用新型提供的一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统解决了图像采集设备在强辐射环境下的生存能力与图像质量差的问题。

为了达到上述发明目的，本实用新型采用的技术方案为：

提供一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统，其包括透光面罩，透光面罩的上端设置有第一屏蔽层，透光面罩的下端设置有第二屏蔽层；第一屏蔽层的下表面设置有双曲面反射镜；第二屏蔽层上设置有用于放置成像器的存放腔，存放腔的上端设置有可调镜头；存放腔的下端设置有斜向的线缆通道。

进一步地，第一屏蔽层的材质为铅或钨。

进一步地，第二屏蔽层的材质为铅或钨。

进一步地，透光面罩设置为圆柱状，且透光面罩的材质为玻璃。

进一步地，成像器的投影中心位于双曲面反射镜的外部焦点处。

进一步地，成像器为CMOS图像传感器。

本实用新型的有益效果为：

1、本实用新型通过第一屏蔽层屏蔽来自正上方的辐射，通过第二屏蔽层屏蔽来自前后左右和下方的辐射，可以有效将环境辐射与成像器进行隔离，避免成像器受辐射影响。同时本实用新型通过双曲面反射镜将四周环境反射至成像器中，使得本系统可以获取360°的图像，保证了开阔的全局视野，提高了成像效率。

2、本实用新型将线缆通道斜向设置可以降低电源与信号线穿孔对第二屏蔽层屏蔽效果的影响。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

其中：1、第一屏蔽层；2、透光面罩；3、双曲面反射镜；4、第二屏蔽层； 5、可调镜头；6、存放腔；7、成像器；8、线缆通道。

具体实施方式

下面对本实用新型的具体实施方式进行描述，以便于本技术领域的技术人员理解本实用新型，但应该清楚，本实用新型不限于具体实施方式的范围，对本技术领域的普通技术人员来讲，只要各种变化在所附的权利要求限定和确定的本实用新型的精神和范围内，这些变化是显而易见的，一切利用本实用新型构思的发明创造均在保护之列。