[实用新型]一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统有效
| 申请号： | 202021008775.0 | 申请日： | 2020-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN212463313U | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 田凤莲;张静;刘满禄;张华;王姮;张敦凤;刘冉;霍建文 | 申请（专利权）人： | 西南科技大学 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;G02B17/08 |
| 代理公司： | 成都正华专利代理事务所(普通合伙) 51229 | 代理人： | 李蕊 |
| 地址： | 621010 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 辐射 环境 反射 全景 成像 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统，其特征在于，包括透光面罩(2)，所述透光面罩(2)的上端设置有第一屏蔽层(1)，所述透光面罩(2)的下端设置有第二屏蔽层(4)；所述第一屏蔽层(1)的下表面设置有双曲面反射镜(3)；所述第二屏蔽层(4)上设置有用于放置成像器(7)的存放腔(6)，所述存放腔(6)的上端设置有可调镜头(5)；所述存放腔(6)的下端设置有斜向的线缆通道(8)。
2.根据权利要求1所述的适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统，其特征在于，所述第一屏蔽层(1)的材质为铅或钨。
3.根据权利要求1所述的适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统，其特征在于，所述第二屏蔽层(4)的材质为铅或钨。
4.根据权利要求1所述的适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统，其特征在于，所述透光面罩(2)设置为圆柱状，且透光面罩(2)的材质为玻璃。
5.根据权利要求1所述的适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统，其特征在于，所述成像器(7)的投影中心位于所述双曲面反射镜(3)的外部焦点处。
6.根据权利要求1所述的适用于核与辐射环境的折反射全景成像系统，其特征在于，所述成像器(7)为CMOS图像传感器。
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