[实用新型]一种双面沉积磁控真空卷绕镀膜设备

权利要求书

1.一种双面沉积磁控真空卷绕镀膜设备，包括呈真空状态的真空室(1)，其特征在于：所述真空室(1)内设有用于放卷带材(10)的放卷辊(4)、用于收卷带材(10)的收卷辊(3)和两个间隔分布的主辊(7)，所述收卷辊(3)和放卷辊(4)之间的带材(10)经换向辊(11)换向后反向缠绕在两主辊(7)上；所述真空室(1)设有用于对带材(10)进行离子清洗的清洗离子源(5)和多个用于对带材(10)磁控溅射镀膜的磁控靶(6)，所述磁控靶(6)和清洗离子源(5)围绕主辊(7)分布设置，且所述清洗离子源(5)位于主辊(7)的带材(10)进膜端。

2.根据权利要求1所述的一种双面沉积磁控真空卷绕镀膜设备，其特征在于：所述主辊(7)为夹层结构，所述主辊(7)夹层内填充有用于对带材(10)进行冷却的冷却载体。

3.根据权利要求1所述的一种双面沉积磁控真空卷绕镀膜设备，其特征在于：所述主辊(7)的带材(10)进膜端和出膜端两端位置均设有展平辊(8)。

4.根据权利要求1所述的一种双面沉积磁控真空卷绕镀膜设备，其特征在于：所述真空室(1)内设有过渡辊(9)，所述过渡辊(9)用于对两主辊(7)之间的带材(10)张紧并过渡传输。

5.根据权利要求1所述的一种双面沉积磁控真空卷绕镀膜设备，其特征在于：所述收卷辊(3)和放卷辊(4)上均设有摆架(2)。

6.根据权利要求1所述的一种双面沉积磁控真空卷绕镀膜设备，其特征在于：所述磁控靶(6)为圆柱旋转磁控阴极靶或矩形平面磁控阴极靶。

7.根据权利要求1所述的一种双面沉积磁控真空卷绕镀膜设备，其特征在于：所述真空室(1)侧壁上设有若干观察窗。