[实用新型]一种电镀设备有效
申请号: | 202020570760.7 | 申请日: | 2020-04-16 |
公开(公告)号: | CN211999961U | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 黄遵齐;郭建国;郭元元 | 申请(专利权)人: | 太仓市施美电镀有限公司 |
主分类号: | C25D17/02 | 分类号: | C25D17/02;C25D17/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电镀 设备 | ||
本实用新型涉及一种电镀设备,其包括电镀槽,电镀槽的开口端活动连接有用于密封电镀槽的帽体,帽体包括底壁和垂直于底壁设置的连接壁,连接壁的内侧壁与电镀槽的外侧壁相接触;电镀槽上开设有第一凹槽和第二凹槽,第一凹槽和第二凹槽相对设置,第一凹槽和第二凹槽之间架设有电镀挂具。本实用新型具有提高电镀产品质量的效果。
技术领域
本实用新型涉及电镀生产工艺及设备的技术领域,尤其是涉及一种电镀设备。
背景技术
电镀就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,镀层金属或其他不溶性材料做阳极,待镀的工件做阴极,镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。电镀使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜,从而起到防止金属氧化,提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性及增进美观等作用。在电镀过程中会伴随着产生一定的热量,主盐是指镀液中能在阴极上沉积出所要求镀层金属的盐,用于提供金属离子。
当镀层金属为阳极时,镀层金属会源源不断为镀液提供主盐,而且主盐浓度必须在一个适当的范围内,主盐浓度增加或减少,在其它条件不变时,都会对电沉积过程及最后的镀层组织有影响。
现有的授权公告号为CN205443497U的中国专利公开了一种电镀设备,包括至少一电镀挂具,电镀挂具包括一吊挂框架、多数个摆动框架及一拉杆;摆动框架系沿着吊挂框架上下间隔排列,且各具有二摆动杆枢设于吊挂框架左、右边侧,以及一连动杆连接于各左右相对的摆动杆间,同时每一摆动杆具有一个可供待电镀物固定的定位端;拉杆系枢接于各摆动框架的连动杆,可供使用者手动操作以同步作动各摆动框架的连动杆,迫使各摆动杆产生杠杆摆动,进而翻转各待电镀物倒回残留于内的电镀液。电镀设备还包括一挂载装置,可供电镀挂具勾挂定位,并通过自动控制电镀挂具升降与横向移动,而依序沉浸与脱离各电镀槽。
上述中的现有技术方案存在以下缺陷:上述的电镀设备在电镀槽内进行电镀时,电镀液直接暴露在空气中,电镀液中会有一部分的水分蒸发至空气中,而电镀过程中又有大量的热量产生,热量的产生又会加速电镀液中水分的蒸发。当镀层金属为阳极时,电镀液中水分的蒸发会导致主盐的浓度发生变化,最终会对镀层组织产生影响,导致最终的电镀产品的质量不佳。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的是提供一种电镀设备,其具有提高电镀产品质量的优点。
本实用新型的上述实用新型目的是通过以下技术方案得以实现的:
一种电镀设备,包括电镀槽,所述电镀槽的开口端活动连接有用于密封电镀槽的帽体,所述帽体包括底壁和垂直于底壁设置的连接壁,所述连接壁的内侧壁与电镀槽的外侧壁相接触;所述电镀槽上开设有第一凹槽和第二凹槽,所述第一凹槽和第二凹槽相对设置,所述第一凹槽和第二凹槽之间架设有电镀挂具。
通过采用上述技术方案,在帽体设置后,能够在一定程度上减少电镀液中水分的蒸发,而连接壁的内侧壁与电镀槽的外侧壁相接触,能够对电镀槽起到更好的密封作用,以更好的起到防止水分蒸发的作用。如果将电镀液直接暴露在空气中,上方空气流动速度快,通风好,分子重新返回液体的机会越小,蒸发就越快,帽体设置后水蒸气会在帽体上凝结后回到液体中来。进而保证电镀液的浓度,以此提高产品的质量。
本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述连接壁远离底壁的一端的外侧壁上连接有外沿壁,所述外沿壁向远离连接壁的一侧延伸,所述电镀槽的外侧壁上设置有卡接壁,所述外沿壁与卡接壁相接触。
通过采用上述技术方案,外沿壁和卡接壁设置后,能够在一定程度上提高帽体对电镀槽的密封效果,外沿壁和卡接壁相接触,能够更好的防止水分的散失。
本实用新型在一较佳示例中可以进一步配置为:所述外沿壁和卡接壁均呈U型,所述卡接壁对应卡嵌在外沿壁的外侧。
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