[实用新型]镀膜生产设备有效

专利信息
申请号: 202020335028.1 申请日: 2020-03-17
公开(公告)号: CN211999911U 公开(公告)日: 2020-11-24
发明(设计)人: 梁建军;朱海剑 申请(专利权)人: 常州捷佳创精密机械有限公司
主分类号: C23C16/50 分类号: C23C16/50;C23C16/54;C23C16/46;C23C16/458
代理公司: 北京友联知识产权代理事务所(普通合伙) 11343 代理人: 汪海屏;王淑梅
地址: 213133 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 镀膜 生产 设备
【说明书】:

实用新型提供了一种镀膜生产设备,镀膜生产设备包括:进载腔,进载腔上设置有第一真空泵;加热组件,加热组件的进料端与进载箱相连接,加热组件包括至少两个真空加热装置;出载腔,与加热组件的出料端相连接,出载腔上设置有第二真空泵;传送组件,与进载腔,加热组件和出载腔相连接;其中,传送组件被配置为适于将进载腔中的至少两个工件分别传送至至少两个真空加热装置中加热,以及将完成加热的至少两个工件由真空加热装置传送至出载腔。使镀膜生产设备可以在单次抽真空‑回填大气循环中同时加热多个工件,以大幅度提升加工效率。进而实现优化镀膜生产设备结构,提升镀膜生产设备生产效率,降低产品生产成本的技术效果。

技术领域

本实用新型涉及镀膜生产技术领域,具体而言,涉及一种镀膜生产设备。

背景技术

太阳能电池片生产过程中,PECVD(Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition,等离子体增强化学的气象沉积法)镀膜设备的产能直接影响着电池片的成本,传统的PECVD设备,由于每块载板每次进出真空腔体都需要花费很多的时间进行抽真空回填大气,同时为了工艺反应时硅片的温度均匀,需要很多个腔体均放置加热器并且花费很多的时间给硅片辐射加热,这样就导致设备成本大大提高、单位时间的产能受到很大的约束。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。

为此,本实用新型提出一种镀膜生产设备。

有鉴于此,本实用新型的提供了一种镀膜生产设备,镀膜生产设备包括:进载腔,进载腔上设置有第一真空泵;加热组件,加热组件的进料端与进载箱相连接,加热组件包括至少两个真空加热装置;出载腔,与加热组件的出料端相连接,出载腔上设置有第二真空泵;传送组件,与进载腔、加热组件和出载腔相连接;其中,传送组件被配置为适于将进载腔中的至少两个工件分别传送至至少两个真空加热装置中加热,以及将完成加热的至少两个工件由真空加热装置传送至出载腔。

在该技术方案中,镀膜生产设备包括进载腔、加热组件、出载腔和传送组件。进载腔与加热组件的进料端相连接,用于向加热组件输送待加工的工件,加热组件用于加热工件,以满足用户的工艺需求。出载腔与加热组件的出料端相连接,用于接收已完成加热的工件,并将已完成加热的工件集中输送出镀膜生产设备。根据工件的工艺需求,在进载腔上设置有第一真空泵,在加热组件内设置至少两个真空加热装置,在出载腔上设置第二真空泵,从而使进载腔可以与真空加热装置同步气压后向真空加热装置中进载工件,相应的使出载腔可以与真空加热装置同步气压后由真空加热装置接收完成加工的工件,从而保证真空加热装置的真空环境不被破坏,确保加工出的工件的质量稳定可靠。传送组件与进载腔、加热组件和出载腔相连接,传送组件可以同时将至少两个工件由进载腔分别传送至加热装置中的至少两个真空加热装置中以供加热,并且传送组件还可以同时将至少两个真空加热装置中的工件由加热组件传送至出载腔内。

通过在镀膜生产设备上设置至少两个真空加热装置,以及设置可同时向至少两个真空加热装置输送和输出工件的传送组件,使镀膜生产设备可以执行一次抽真空循环时,同时完成多个工件的加热工艺,从而避免每个工件在进出进载腔、加热组件和出载腔时均需要执行一次抽真空和回填大气的步骤,使镀膜生产设备可以在单次抽真空-回填大气循环中同时加热多个工件,以大幅度提升加工效率。进而实现优化镀膜生产设备结构,提升镀膜生产设备生产效率,降低产品生产成本的技术效果。

另外,本实用新型提供的上述镀膜生产设备还可以具有如下附加技术特征:

上述技术方案中,至少两个真空加热装置串接。

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