[实用新型]一种多功能纳米真空镀膜仪

说明书

本实用新型公开了一种多功能纳米真空镀膜仪，包括蒸发源，所述蒸发源包括具有蒸发腔的柱形坩埚，所述柱形坩埚的顶部设有用于出料的开口，所述蒸发腔内用于放置待蒸发材料，所述柱形坩埚的内底面间隔设有多个第一环形凸起，所述柱形坩埚的外底面上与第一环形凸起对应的位置设有第一环形凹槽，且所述柱形坩埚为氮化硼坩埚。通过在柱形坩埚的底部的上表面间隔设有第一环形凸起，下表面间隔设有第一环形凹槽，在进行真空镀膜时，能增加蒸发材料与柱形坩埚底部的受热接触面积，以提高蒸发效率；且采用氮化硼坩埚，能满足有机材料和金属材料的蒸发条件。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀设备技术领域，具体涉及一种多功能纳米真空镀膜仪。

背景技术

目前在高校和研发机构中，对于纳米材料和纳米器件的制备常常用到真空镀膜仪，在蒸镀的过程中，蒸发源内的蒸镀材料被加热到一定温度发生蒸发或升华，蒸汽从坩埚上升并沉积到目标基板表面形成薄膜。

在现有技术中，一般采用真空有机蒸镀仪来制备有机薄膜，采用真空金属蒸镀仪来制备金属薄膜，很少有真空蒸镀仪能够同时满足有机薄膜和金属薄膜的生产，即使有少部分能满足以上要求的真空蒸镀仪，在实际生产中，往往会采取添加更多的蒸镀材料的方式来提高蒸镀材料的蒸发速率，可能会造成蒸镀材料的浪费。

实用新型内容

为解决上述技术缺陷，本实用新型采用的技术方案在于，提供一种多功能纳米真空镀膜仪，包括蒸发源，所述蒸发源包括具有蒸发腔的柱形坩埚，所述柱形坩埚的顶部设有用于出料的开口，所述蒸发腔内用于放置待蒸发材料，所述柱形坩埚的内底面间隔设有多个第一环形凸起，所述柱形坩埚的外底面上与第一环形凸起对应的位置设有第一环形凹槽，且所述柱形坩埚为氮化硼坩埚。

进一步地，所述柱形坩埚的底部可拆卸设有支撑架，所述支撑架上设有位于柱形坩埚下方的柔性加热片，所述柔性加热片的上表面设有多个第二环形凸起，所述第二环形凸起与第一环形凹槽相互配合且两者留有间隙。

进一步地，所述柱形坩埚的外壁中部沿周向设有第一限位槽，所述第一限位槽内安装有辅助加热套。

进一步的，所述柱形坩埚的外壁下部沿周向设有第二限位槽，所述第二限位槽内安装有水冷带。

进一步地，所述柔性加热片的下方设有第一热屏蔽罩，所述第一热屏蔽罩安装在支撑架上。

进一步地，所述辅助加热套外设有第二热屏蔽罩。

进一步地，所述蒸发源设有多个。

进一步地，所述第一环形凸起等间距分布，且间距为2mm。

与现有技术比较本实用新型技术方案的有益效果为：

1、本实用新型提供的一种多功能纳米真空镀膜仪，通过在柱形坩埚的底部间隔设有第一环形凸起和第一环形凹槽，可以在进行真空镀膜时，增加蒸发材料与柱形坩埚底部的受热接触面积，以提高蒸发效率；且采用氮化硼坩埚，能满足有机材料和金属材料的蒸发条件。

2、采用具有第二环形凸起的柔性加热片与柱形坩埚底部的第一环形凹槽相配合，可以使柱形坩埚受热更加均匀，采用支撑架对柔性加热片进行定位支撑，有利于柱形坩埚加热的稳定性。

3、设置辅助加热套能进一步提高柱形坩埚的蒸发效率，设置第一限位槽能保证辅助加热套的稳定安装；安装水冷带用于柱形坩埚的快速降温，保证蒸发源在蒸镀处理时能正常工作。

4、通过设置第一热屏蔽罩和第二热屏蔽罩，用于反射加热片和加热套发出的热离子，防止热量的散失，进一步提高柔性加热片和辅助加热套的加热效率。

附图说明